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文檔簡介
1、本文合成了三種低聚物/層狀硅酸鹽材料,并通過IR、XRD、DTA-TG、熒光光譜等分析手段對其進行了表征。這三種低聚物/層狀硅酸鹽材料的制備及表征結果如下:(1)以稀土低聚物季銨鹽(Eu(Phen)(BA)<,2>AA-co-MBDAC)修飾蒙脫土。得到的低聚物/層狀硅酸鹽材料在615nm處有較強熒光發(fā)射。并且通過對不同物質的量配比的低聚物季銨鹽進行稀土含量及熒光性能的綜合分析,得出當M<,Eu(Phen)(BA)2AA>/M<,MBD
2、AC>=1/4時,熒光發(fā)射強度最大。(2)以可聚合性季銨鹽與4一乙烯吡啶共聚物(MBDAC-CO-4-VP)通過陽離子交換修飾蒙脫土。通過改變共聚單體的比例,可以得到具有不同熒光發(fā)射波長的低聚物季銨鹽。熒光分析得出低聚物季銨鹽修飾蒙脫土后,只有熒光強度上的變化,而發(fā)射光譜峰位幾乎不變。(3)聚合性季銨鹽嵌入蒙脫土后再與稀土配合物發(fā)生共聚,得到熒光性能良好的低聚物/層狀硅酸鹽材料。XRD數據表明:稀土配合物只能與蒙脫土層間的可聚合性季銨鹽
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