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文檔簡介
1、與前二代半導體硅(Si)和砷化鎵(GaAs)材料相比,第三代半導體氮化鎵(GaN)材料具有禁帶寬、電子遷移率高、電子飽和速率高、耐高壓和耐高溫等眾多優(yōu)點。GaN材料的這些特性使得AlGaN/GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)具有輸出功率密度大,工作電壓高和輸出阻抗高等特點,在光電子、高溫大功率器件、民用通信和微波通信應(yīng)用方面有著廣闊的前景。
為了使GaN器件應(yīng)用于微波和毫米波電路,需要對器件的可靠性及電路設(shè)計等方面提出更
2、高的要求。目前,AlGaN/GaN HEMT器件可靠性及模型建立理論方面的研究成果較少,無法很好的描述GaN器件特性。
本文在經(jīng)典Angelov模型和EEHEMT1模型的基礎(chǔ)上,考慮了柵源電壓Vgs對膝點電壓Vknee的影響和器件的自熱效應(yīng),對其直流部分進行了改進,建立了一種新的半經(jīng)驗直流特性模型。在研究過程中,使用MATLAB軟件提取了模型參數(shù)。與經(jīng)典的經(jīng)驗?zāi)P拖啾龋碌哪P头匠淘诰€性區(qū)和飽和區(qū)都更好地描述了AlGaN/
3、GaN HEMT器件的I-V特性,取得了較好的模擬效果。然后,基于負載牽引測試和功率掃描測試結(jié)果,結(jié)合實驗室自主研制的AlGaN/GaN HEMT器件,分別給出了輸出功率、增益和功率附加效率的模擬結(jié)果。在連續(xù)波的條件下(直流偏置電壓為Vds=30V,Vgs=-4.0V),柵寬為100μm的器件在5.5GHz頻率下最大輸出功率為28.63dBm,最大功率附加效率出現(xiàn)在輸入功率為14dBm處,約為35%,線性增益約為17dB。根據(jù)尺寸變換方
4、法,柵寬1mm的器件在同樣偏置條件下最大輸出功率為37.79dBm,最大功率附加效率約為40%。,線性增益約為15dB。最后,基于建立的模型,完成了X波段AlGaN/GaN HEMT器件的AB類功率放大器的電路仿真和設(shè)計。為了提高電路的性能,對電路的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)以及匹配結(jié)構(gòu)進行了優(yōu)化,最終得到了較好的仿真結(jié)果:輸出功率峰值達到46.17dBm,功率附加效率約為54%,線性增益為17.3dB。另外,本文采用五次諧波抑制拓撲結(jié)構(gòu)和微帶線結(jié)構(gòu),設(shè)
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