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文檔簡介
1、AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料體系由于其應(yīng)用在高溫、高頻、大功率等方面的優(yōu)越性,受到越來越多關(guān)注,對該材料體系和器件的研究已成為微電子研究領(lǐng)域的前沿和熱點(diǎn)。本論文對A1GaN/GaN異質(zhì)結(jié)材料及器件的一些基本特性進(jìn)行了研究,這些研究包括:通過計算機(jī)數(shù)值計算模擬了異質(zhì)結(jié)構(gòu)的二維電子氣(2DEG)行為,研究了AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)的表面勢釘扎效應(yīng);A1GaN/GaN異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管(AtGaN/GaN HFET)的一些器件參數(shù);AIG
2、aN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)的熱穩(wěn)定性。研究結(jié)果如下: 1)在Matlab環(huán)境下,成功地進(jìn)行了一維薛定諤方程和泊松方程的自洽求解,得到了AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)界面處二維電子氣子能級和濃度的分布以及異質(zhì)結(jié)構(gòu)導(dǎo)帶結(jié)構(gòu),計算了A1GaN勢壘層的極化電荷密度。 2)利用文獻(xiàn)中不同研究小組的實驗數(shù)據(jù),結(jié)合計算機(jī)模擬計算方法,分析計算AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)的表面勢釘扎效應(yīng),結(jié)果表明對于MOCVD方法生長的AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)材
3、料,未能出現(xiàn)文獻(xiàn)中報道的1.65eV表面勢釘扎。 3)結(jié)合實驗測得的AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)肖特基接觸的電容.電壓(C-V)特性曲線,找到了一種新方法計算AIGaN/GaN HFET的開啟電壓(V<,T>);并在此基礎(chǔ)上,分析計算得到了AIGaN/CmN HFET的夾斷電壓(V<,p>)。 4)結(jié)合計算機(jī)模擬,分析了A1GaN/CaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)肖特基接觸的熱穩(wěn)定性,研究表明:熱處理后的AIGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu),肖特基接
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