GaN摻雜系統(tǒng)電子結(jié)構(gòu)和光學性質(zhì)的理論研究.pdf

1、近幾十年來，隨著半導體技術(shù)的迅速發(fā)展，以寬帶隙為主要特征的第三代半導體材料，如GaN、SiC、ZnO等顯示出了巨大的應用價值。其中，GaN半導體材料具有帶隙寬、電子漂移速度快、耐高溫、耐高壓、抗輻射等優(yōu)點，在短波長器件以及高功率微波器件的研制中受到了人們的高度重視。事實上，通常實驗室制備的GaN薄膜材料是n型，由于存在本征缺陷（如N空位等），對施主摻雜產(chǎn)生高度補償作用，難以實現(xiàn)p型轉(zhuǎn)變，導致很難制得氮化鎵p-n結(jié)結(jié)構(gòu)，極大地限制了GaN

2、光電器件的開發(fā)和應用，因此GaN研究的一個重要問題就是p型轉(zhuǎn)變問題。此外，基于GaN的紫外線探測器工作在日盲區(qū)，日盲區(qū)紫外線的波長范圍為220nm～280nm，而純GaN的帶隙只有3.3eV(對應波長為376nm)，因而有必要制備帶隙更大的GaN薄膜材料。研究表明，在GaN晶體中摻入適量的Al可以增大系統(tǒng)的光學帶隙，其發(fā)射波長覆蓋整個可見光區(qū)和部分紫外光區(qū)。
　　 基于計算機技術(shù)，進行數(shù)值模擬，對材料的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)進行預測和設計是

3、現(xiàn)代材料科學研究的重要方法。本文利用基于密度泛函理論的第一性原理方法對纖鋅礦和閃鋅礦GaN的摻雜問題進行了理論研究。
　　 論文的主要內(nèi)容如下。
　　 (1)介紹了GaN的電子結(jié)構(gòu)、電學性質(zhì)、光學性質(zhì)，給出了GaN器件的應用和相關(guān)摻雜問題的研究現(xiàn)狀，并簡要介紹了本文的計算工具ABINIT軟件包及其理論基礎(chǔ)——密度泛函理論。
　　 (2)計算了閃鋅礦純GaN以及Al摻雜GaN的電子結(jié)構(gòu)和光學性質(zhì)，得到了Ga1-xA

4、lxN系統(tǒng)的晶格常數(shù)、能帶結(jié)構(gòu)、電子態(tài)密度、差分電荷密度和吸收譜。結(jié)果表明，純GaN為直接帶隙半導體材料，其價帶頂主要由N2p態(tài)決定，導帶底主要由Ga4s態(tài)決定。帶隙寬度主要由N2p態(tài)和Ga4s態(tài)決定。隨著Al摻雜濃度的增大，系統(tǒng)的晶格常數(shù)逐漸減小，符合Vegard’s定律，帶隙寬度增大，吸收光譜藍移。當摻雜濃度x=0.5時，吸收邊在270nm左右，可以達到日盲區(qū)紫外線探測器的要求。計算結(jié)果與實驗符合較好。
　　 (3)計算了纖