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1、本文主要研究了兩方面的內(nèi)容:1.利用傅立葉紅外光譜儀(FTIR)研究了CZ法制備的SiGe合金材料(單晶、多晶)的紅外吸收譜圖;2.研究了Ge濃度與SiGe合金熱電轉(zhuǎn)換性能的關(guān)系。 利用FTIR技術(shù)研究了CZSi中Ge濃度與雜質(zhì)氧的關(guān)系,研究發(fā)現(xiàn):Ge的摻入降低了Si單晶中的氧含量,與不摻Ge的Si單晶相比,降低了30~50%;Ge的摻入導(dǎo)致對(duì)應(yīng)于Si-O-Si鍵的1106cm-1吸收峰向低波數(shù)段漂移,并在1118cm-1(10
2、K下)波數(shù)處引起新的吸收峰;Ge摻入在710cm-1、800cm-1波數(shù)處引起紅外吸收峰,峰的強(qiáng)度隨Ge含量的增加而增強(qiáng),且吸收峰的強(qiáng)度和波形不隨測(cè)試溫度的改變而變化:利用710cm-1吸收峰的吸收系數(shù)αmax、半峰寬W1/2和Ge濃度的關(guān)系,分別得到了室溫下和10K下利用FTIR技術(shù)測(cè)定CZSi單晶中Ge含量的計(jì)算公式:[Ge]=1.429×1020amaxW1/2(atoms/cm3)室溫[Ge]=1.274×1020αmaxW1/
3、2(atoms/cm3)10K 利用Seebeck系數(shù)測(cè)試儀、階躍函數(shù)加熱法熱導(dǎo)率測(cè)試儀、激光脈沖熱導(dǎo)率測(cè)試儀和四探針?lè)ㄑ芯苛瞬煌珿e含量的SiGe合金熱電轉(zhuǎn)換性能。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:不同SiGe合金的Seebeck系數(shù)的絕對(duì)值大小一般在200-500μV/K之間,隨溫度不同略有起伏,對(duì)于p型SiGe單晶,<100>晶向單晶的賽貝克系數(shù)為450-530μV/K,<111>晶向的為325-400μV/K,表現(xiàn)出明顯的各向異性;Ge的摻
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