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1、隨著微電子技術(shù)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體材料的發(fā)展,電子器件和光電器件的運(yùn)行速度得到了前所未有的提高,然而,要評(píng)價(jià)這些器件的性能參數(shù),就需要超高速的電信號(hào)和超高速的檢測(cè)系統(tǒng),在這樣的背景下,本課題研制了超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān),完善了基于電光采樣技術(shù)的測(cè)試系統(tǒng)。通過(guò)對(duì)光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)基本結(jié)構(gòu)和原理的分析,對(duì)光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的輸出進(jìn)行了模擬,然后,設(shè)計(jì)和制備了超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)器件,并對(duì)超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的基本特性進(jìn)行了測(cè)試,同時(shí)搭建了超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)輸出電脈沖的測(cè)試系
2、統(tǒng),以期用超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的輸出電脈沖作為輸入信號(hào),采用搭建的測(cè)試系統(tǒng)測(cè)量其他高速器件的性能參數(shù)。本文主要內(nèi)容和成果如下:
(1)查閱了大量的文獻(xiàn)資料,對(duì)光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的發(fā)展和研究現(xiàn)狀進(jìn)行了分析總結(jié)。
(2)開(kāi)展了超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)芯片材料的選擇工作,經(jīng)分析,選擇低溫生長(zhǎng)的GaAs作為芯片材料,利用AFM陽(yáng)極氧化的方法加工超高速光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的功能結(jié)構(gòu),同時(shí)選擇微帶電極型結(jié)構(gòu)和共面微帶型傳輸線,從而設(shè)計(jì)了新型的光電導(dǎo)開(kāi)
3、關(guān)的整體結(jié)構(gòu);通過(guò)理論分析,利用Matlab模擬了此光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的輸出特性,并采用PSPICE電路模擬軟件模擬光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的傳輸特性。
(3)設(shè)計(jì)制作了新型光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的光刻版圖,采用傳統(tǒng)的光刻工藝、直流磁控濺射工藝和AFM氧化加工方法制備了新型光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)。同時(shí),對(duì)光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的絕緣保護(hù)進(jìn)行了研究。
(4)測(cè)試了研制的光電導(dǎo)開(kāi)關(guān)的基本特性,試制了隧道結(jié),通過(guò)實(shí)驗(yàn)觀察到了隧道結(jié)的遂穿現(xiàn)象,分析了遂穿結(jié)構(gòu)與原理。
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