脈沖真空電弧離子源控制系統(tǒng)研制.pdf

1、脈沖真空電弧離子鍍膜技術以其高離化率、高離子能量、高生產效率以及膜層液滴污染小等優(yōu)點日益得到廣泛的研究及應用.但是,目前脈沖真空電弧離子源控制系統(tǒng)的研究與開發(fā)國內尚屬首次,從查閱的有關資料來看,未見有報導.課題以研究脈沖真空電弧離子源為基礎,著重進行脈沖電弧離子源控制系統(tǒng)的研制.脈沖電弧離子源的工作原理是一種級聯放電的過程,它通過引弧、起弧1和起弧2三個回路的依次放電,形成等離子體,并最終引發(fā)主回路放電,起到鍍膜的目的.課題首先采用了單

2、相和三相L-C交流變換器為控制系統(tǒng)提供穩(wěn)定的交流電流源,并通過升壓和整流電路為以上四個回路的放電電容進行充電.為了滿足不同工藝和不同陰極材料對放電電壓的要求,變壓器的輸入并聯了晶閘管,通過比較、采樣和晶閘管門極觸發(fā)電路控制晶閘管的通斷,以此達到控制回路電壓的目的.同時,為了避免由于控制電路出現故障而引起回路電壓過大的現象,加入了過壓保護電路,從而有效地提高了設備運行的安全性.在引弧回路的設計中,課題采用了兩級電容充電和雙脈沖觸發(fā)的引弧方