版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、基于負(fù)離子束的中性束注入系統(tǒng)是未來大型核聚變裝置進(jìn)行等離子體加熱的重要方式,負(fù)離子源是其核心部件。在負(fù)離子源引出區(qū)前產(chǎn)生一個(gè)橫向的過濾磁場,是提高負(fù)離子產(chǎn)額,減小共同引出電子比率的重要環(huán)節(jié),能夠有效提升負(fù)離子源性能。過濾磁場可以有效“冷卻”從激勵(lì)區(qū)輸運(yùn)過來的高能電子,從而減少負(fù)離子的破壞。德國IPP相關(guān)實(shí)驗(yàn)研究結(jié)果表明,一個(gè)良好的過濾磁場參數(shù)不但可以增大負(fù)離子源的引出束流密度,還能有效抑制共同引出的電子,因此有必要對過濾磁場的參數(shù)進(jìn)行優(yōu)
2、化設(shè)計(jì)。
針對本課題組提出的圓柱形的擴(kuò)展腔裝置,我們設(shè)計(jì)了一個(gè)圓環(huán)形結(jié)構(gòu)的過濾磁場裝置。與IPP過濾磁場裝置的平行結(jié)構(gòu)相比,該結(jié)構(gòu)具有結(jié)構(gòu)緊湊,可以靈活改變磁場方向等優(yōu)點(diǎn)。
過濾磁場對等離子體輸運(yùn)過程的影響規(guī)律需要借助于復(fù)雜的等離子體模擬才能獲得,難度比較大,本課題組還尚未完成該項(xiàng)工作。IPP則主要是借助于實(shí)驗(yàn)的方法來確定過濾磁場參數(shù)。由于暫不具備實(shí)驗(yàn)條件,故本文選擇以IPP的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)為參考目標(biāo),使用有限元的方法計(jì)算
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- HUST射頻負(fù)離子源束流檢測量熱計(jì)設(shè)計(jì).pdf
- 新型離子源的電源研制.pdf
- J-TEXT診斷中性束離子源參數(shù)分析與優(yōu)化.pdf
- RF離子源激勵(lì)器阻抗檢測系統(tǒng)設(shè)計(jì).pdf
- 10cm射頻離子源工程設(shè)計(jì)與初步實(shí)驗(yàn).pdf
- 納米聚焦離子束系統(tǒng)液態(tài)金屬離子源的研制.pdf
- 解吸附電暈束離子源(DCBI)的研制與應(yīng)用.pdf
- 封閉漂移陽極層型線性離子源的研究.pdf
- 射頻離子源研制及引出系統(tǒng)數(shù)值模擬.pdf
- 關(guān)于氫氦同軸離子注入機(jī)離子源的研究.pdf
- RF負(fù)氫離子源激勵(lì)器的主體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì).pdf
- 脈沖真空弧離子源等離子體參數(shù)診斷研究.pdf
- 脈沖真空電弧離子源控制系統(tǒng)研制.pdf
- 基于射頻離子源的中性束系統(tǒng)基礎(chǔ)特性研究.pdf
- 考夫曼離子源等離子體模擬與結(jié)構(gòu)改進(jìn).pdf
- 空間低能離子譜儀的紫外響應(yīng)測試和電子碰撞離子源的設(shè)計(jì).pdf
- 考夫曼離子源等離子體模擬與結(jié)構(gòu)改進(jìn)
- 常壓亞穩(wěn)態(tài)解吸附離子源(AMDI)的研制與應(yīng)用.pdf
- 小型潘寧離子源中子管離子光學(xué)系統(tǒng)的研究.pdf
- End-Hall離子源沉積DLC膜的工藝研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論