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文檔簡介
1、本文采用在NdFeB永磁體表面直接化學鍍制備Ni-P-W/nano-Nb2O5復合鍍層。利用X射線衍射儀(XRD)、附帶能譜儀(EDS)的掃描電鏡(SEM)、顯微硬度儀、WS-2005涂層附著力自動劃痕儀分別對復合鍍層的結構、表面形貌及成分、顯微硬度、與基體的結合強度進行了測試。同時采用增重 法探究了工藝參數(溫度、PH、還原劑、轉速)對復合鍍層沉積速度的影響。
利用掃描電鏡(SEM))對Ni-P-W/nano-Nb2O5
2、復合鍍層的表面形貌進行了觀察,兩種配方下的復合鍍層表面形貌是由大量致密、并且尺寸不一胞狀物組成,白色納米Nb2O5顆粒彌散分布于鍍層中,鍍層中Ni、P、W、Nb2O5實現了共沉積,但由于鍍層的表面某些區(qū)域其表面能過高導致納米Nb2O5顆粒出現團聚。其納米Nb2O5的加入不會影響鍍層的結構。相同配方下制備的復合鍍層其顯微硬度隨納米Nb2O5含量的增加呈遞增趨勢,同時在納米Nb2O5含量相同時配方一下制備的復合鍍層硬度值大于配方二下的復合鍍
3、層。溫度對鍍層硬度的影響:在400℃以下時,復合鍍層的硬度隨溫度的上升而變大,在400℃C其硬度達到最大值,其變化規(guī)律不受Nb2O5顆粒含量的影響。用劃痕實驗對Ni-P-W/nano-Nb2O5復合鍍層(施鍍時間為1小時)的結合強度進行研究,兩種配方下復合鍍層的臨界應力隨Nb2O5濃度的增加先增大再減小,當Nb2O5濃度為1.5g/L時臨界應力最大分別為6.75N、6.7N,在Nb2O5濃度相同時,配方二下的Ni-P-W/nano-Nb
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