共沉淀法制備鉍取代釔鐵石榴石磁光薄膜的研究.pdf

1、磁光記錄是目前發(fā)展最完備的可擦除重寫式光記錄技術(shù)。從記錄密度角度考慮,由于光衍射的限制,最小記錄尺寸與激光源的波長成正比。因此傳統(tǒng)的磁光記錄介質(zhì)-稀土金屬與過渡組金屬的合金就表現(xiàn)出局限性,因為這種材料在短波長范圍的磁光效應(yīng)很小。而且在沒有很好封裝的情況下,它的化學(xué)穩(wěn)定性很差。鉍取代釔鐵石榴石在短波長范圍有巨大的磁光效應(yīng),而且它的化學(xué)穩(wěn)定性良好。這種材料吸引人們的廣泛研究,并被看作最具前景的下一代磁光記錄介質(zhì)。在本文的綜述部分,首先介紹了

2、什么是磁光效應(yīng),并且總結(jié)了不同類別的磁光材料。然后著重介紹了鐵石榴石磁光材料的結(jié)構(gòu)、磁學(xué)與磁光學(xué)性能、和它的發(fā)展歷程。接下來介紹了Bi-YIG材料在目前的應(yīng)用,例如磁光隔離器、磁光電流/磁場傳感器和磁光記錄等。最后比較了不同解釋磁光現(xiàn)象的理論模型。本文實驗研究由以下四部分組成:1.共沉淀法制備Bi-YIG納米顆粒。討論了PH值、研磨時間和熱處理條件對Bi-YIG納米顆粒結(jié)晶情況和晶粒尺寸的影響。2.共沉淀法加旋轉(zhuǎn)鍍膜法制備磁光復(fù)合薄膜。