兩種電源模式下鎂合金微弧氧化電參數(shù)交互作用對比研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本論文采用正交試驗方法,在兩種電源模式下制備AZ91D鎂合金微弧氧化膜層。通過對膜層厚度、耐蝕性、成分、表面形貌、截面形貌進行檢測分析,研究兩種電源模式下各電參數(shù)及交互作用對膜層的影響。此外,還對兩種電源模式下頻率數(shù)值相等以及實際效用相等時的電參數(shù)對膜層的影響進行了比較研究。
   M2模式下,電參數(shù)及其交互作用對膜層厚度及點滴耐蝕性影響的趨勢基本一致。其中電壓的影響很大,膜厚和點滴耐蝕性隨電壓的增大而增大,而占空比及其交互作用

2、對膜厚和點滴耐蝕性影響則幾乎可以忽略。故選取膜厚和點滴耐蝕性的電參數(shù)最佳搭配時,占空比可以根據(jù)實際情況采用不同的水平。膜厚和點滴耐蝕性的電參數(shù)最佳搭配均為電壓450V、頻率900HZ、占空比40%。
   電參數(shù)及其交互作用對膜層腐蝕電流和極化電阻的影響處在同一水平,其交互作用對電參數(shù)最佳搭配的影響較大,故選取電參數(shù)最佳搭配時應(yīng)考慮到交互作用。電化學(xué)耐蝕性的電參數(shù)最佳搭配為.A483C2,即電壓450V、頻率700HZ、占空比2

3、0%。
   M1模式下,電參數(shù)及其交互作用對膜層厚度和點滴耐蝕性影響的趨勢基本一致,其中電壓的影響遠(yuǎn)大于其他電參數(shù)和交互作用的影響。膜層厚度的電參數(shù)最佳搭配為A382C1,即電壓400V、頻率1400HZ、占空比20%。膜層點滴耐蝕性的電參數(shù)最佳搭配為A382C2,即電壓400V、頻率1400HZ、占空比30%。
   電參數(shù)及其交互作用對膜層腐蝕電流和極化電阻的影響在同一層次,其交互作用對電參數(shù)最佳搭配的影響較大,故

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