2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩80頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、低溫條件下在結(jié)構(gòu)材料表面制備高含量的α-Al2O3防氚滲透涂層是聚變堆包層技術(shù)發(fā)展中的難題。為此,本文提出采用磁控濺射技術(shù)在316L不銹鋼表面制備Al-Y涂層并對其進(jìn)行氧化獲得α-Al2O3涂層,研究稀土元素Y和離子轟擊對α-Al2O3涂層組織結(jié)構(gòu)及性能的影響,對低溫下制備性能優(yōu)異的高含量α-Al2O3防氚滲透涂層具有重要的意義。
  本文利用磁控濺射技術(shù)在316L不銹鋼表面制備Al-Y涂層,并經(jīng)過L16(43)正交試驗(yàn),得到優(yōu)化

2、的工藝參數(shù)為:濺射功率300w,濺射時間3h,濺射氣壓5pa。在該工藝參數(shù)下制備的Al-Y涂層表面平整光滑,均勻致密,為連續(xù)的非晶態(tài)薄膜。隨后對磁控濺射Al-Y涂層分別進(jìn)行等離子氧化和熱氧化,經(jīng)過L9(34)正交試驗(yàn)獲得的等離子氧化優(yōu)化的工藝參數(shù)為:溫度800℃,氧氣流量50sccm,滲氧時間3h,氬氣流量50sccm,電壓830V~840V,電流4.0~4.5A,氣壓55Pa;而熱氧化溫度為900℃,其他參數(shù)與等離子氧化參數(shù)一致。磁控

3、濺射Al-Y涂層經(jīng)等離子氧化和熱氧化后均有穩(wěn)態(tài)α-Al2O3生成。
  研究了氧化過程中離子轟擊對α-Al2O3涂層組織結(jié)構(gòu)及性能的影響。發(fā)現(xiàn)同樣條件下磁控濺射所獲得的涂層經(jīng)800℃等離子氧化后比900℃熱氧化后表面穩(wěn)態(tài)α-Al2O3含量更高,因離子轟擊是一種活化過程,在這個過程中會產(chǎn)生很多的晶體缺陷,這些缺陷能儲備一定的能量,在一定溫度下能量釋放,可以抵消部分反應(yīng)能壘,促進(jìn)穩(wěn)態(tài)α-Al2O3的形成。同時,離子轟擊還可使氧化涂層組

4、織更加細(xì)密,結(jié)合性能、耐腐蝕性能和抗熱震性能更好。
  研究了稀土元素Y對α-Al2O3涂層組織結(jié)構(gòu)及性能的影響。XRD測試結(jié)果表明,不同含Y量的氧化涂層中α-Al2O3含量不同,其中含30%Y元素靶材磁控濺射Al-Y涂層經(jīng)氧化后穩(wěn)態(tài)α-Al2O3含量較高,這可能是當(dāng)添加適量稀土元素Y時,在氧化初期形成了Y的氧化物質(zhì)點(diǎn),這些質(zhì)點(diǎn)可以為Al元素直接形成穩(wěn)定的α-Al2O3相提供形核點(diǎn),促進(jìn)了穩(wěn)態(tài)α-Al2O3的擇優(yōu)生成。SEM觀察發(fā)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論