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文檔簡介
1、本文研究了基體偏壓和氮氣分壓對多弧離子鍍技術制備的CrAlN硬質膜的結構與性能的影響;利用掃描電鏡(SEM)、電子能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)、X射線光電子能譜儀(XPS)、高分辨透射電鏡(HRTEM)對薄膜的組織和成分進行分析;利用納米壓痕儀、劃痕儀和銷-盤式磨損儀對薄膜的硬度、膜-基結合力和摩擦性能進行測試;對 CrAlN、CrAlSiN硬質膜的高溫穩(wěn)定性能進行了深入的研究。
研究結果表明,隨著基體偏壓的增加或
2、氮氣分壓的降低,涂層表面顆粒數(shù)逐漸減少,涂層的沉積速率呈降低趨勢,涂層的硬度值逐漸降低,摩擦系數(shù)升高。隨著基體偏壓的增加,Cr2N相的逐漸消失。隨氮氣分壓的增加相結構變化如下:Cr+ Cr2N+(Cr,Al)N→ Cr2N+(Cr,Al)N→ Cr2N+ CrN+ AlN+(Cr,Al)N。
CrAlN超硬膜隨著退火溫度從常溫增加到900℃,CrN相逐漸消失取而代之的是Cr2N相,硬度和結合強度略有降低。1100℃退火后,涂層
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