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文檔簡介
1、隨著能源短缺和環(huán)境污染日益嚴重,太陽能電池的應用成為目前解決該問題的主要途徑之一。為了與常規(guī)能源競爭,高效率、低成本的太陽能電池始終是人們研究的目標。由于單結太陽能電池效率低,而疊層電池結構能更充分的利用太陽光譜,因而越來越受到人們的關注。
目前高效率的疊層電池多是以與Ⅲ-Ⅴ族半導體材料晶格匹配的Ge為襯底,如GaInP/GaAs/Ge。然而相比于Ge而言,Si有著更多的優(yōu)勢:它工藝成熟、重量輕、熱導率大、原材料成本低、資源豐
2、富,且Si作為底電池有更高的開路電壓。因此,Si基Ⅲ-Ⅴ族疊層電池結構可以以更低廉的成本獲得高的轉換效率。本論文正是基于這一點開展了對Si基高效Ⅲ-Ⅴ族疊層電池結構的研究。
為了減小Si與GaAs之間由于晶格失配而導致的位錯密度和缺陷,本文提出將窄帶隙的Ge作為連接Si電池和GaAs電池的隧穿結,并從理論上驗證了這種結構的可行性。論文的主要工作包括:
1.基于太陽能電池基本原理,模擬了p/n結構的單結Si電池,優(yōu)化了
3、Si電池結構參數(shù),討論了基區(qū)摻雜濃度對電池性能的影響;模擬了AlGaAs和GaInP窗口層對GaAs太陽能電池效率以及外量子效率的影響;
2.模擬了摻雜濃度對Ge隧穿結和GaAs隧穿結峰值隧穿電流的影響,峰值隧穿電流隨摻雜濃度的增大而增大,當摻雜濃度為3e19/cm3時,Ge的峰值隧穿電流達到1000A/cm2,是GaAs的5倍左右;
3.分別模擬了GaAs/Si和GaInP/GaAs疊層電池,通過優(yōu)化頂電池的厚度使
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