最新代高性能功率MnZn鐵氧體TP4D材料.pdf

1、TP4D材料是一種超低功耗、高飽和磁通密度的最新代功率鐵氧體材料。為研制該材料，由浙江天通電子股份有限公司(TDG)與上海大學理學院組成的課題組進行了大量的配方實驗和材料制造工藝實驗。在此基礎上總結提出了復合離子二次摻雜技術和高密度二次保溫燒結技術。所謂“復合離子”即采用高價(4價，如SnO2)和低價(2價，如CaCO3)兩種離子同時摻雜。本課題組經(jīng)過大量實驗發(fā)現(xiàn)，由CaCO3-Nb2O5-Ta2O5組成的復合離子效果最好，在100kH

2、z，200mT的使用條件下，功率損耗可低至250mw/cm3(100℃)，比傳統(tǒng)的CaO-SiO2摻雜在相同測試條件下的實驗結果340mw/cm3還要低?！岸螕诫s技術”即在二次球磨時再加入適量復合微量元素?！岸伪責Y技術”是指在傳統(tǒng)燒結曲線的降溫過程中，設計一個升溫、保溫、繼續(xù)降溫過程，采用該技術有利于在一定的溫度點使氧化還原反應充分完成。實驗結果表明，新技術對降低材料的功率損耗十分有效。 本文第一章為序論，介紹課題情況，