圖案化介質(zhì)記錄性能的微磁學仿真研究.pdf

1、隨著記錄密度的不斷提高,傳統(tǒng)的磁記錄技術(shù)正在面臨因超順磁效應等問題而導致的記錄密度極限。為應對超順磁極限,一種有效的方法就是使用圖案化磁介質(zhì)。通過將記錄位隔離開來,圖案化介質(zhì)不僅獲得了更高的熱穩(wěn)定性,而且減小了噪聲,被認為是未來超高密度磁記錄技術(shù)的發(fā)展方向。
　　預刻蝕-沉積法被認為是在工業(yè)生產(chǎn)中最有可能采用的制備圖案化介質(zhì)的方法,然而,由這種方法制備得到的介質(zhì)的記錄性能強烈地依賴于沉積條件——沉積物既沉積在磁島上,還會沉積在溝道

2、和側(cè)邊上,這極有可能會引入較大的介質(zhì)噪聲。首先建立了相應的微磁學模型,計算并分析了磁島填充因子 IFF、磁島高度以及磁頭-介質(zhì)間距對介質(zhì)信噪比SNR的影響。指出了在IFF較小時,溝道和側(cè)邊是噪聲的主要來源;在IFF較大時,固有噪聲占據(jù)主導作用;IFF在0.5～0.8之間時,介質(zhì)能夠獲得較高的SNR。磁島越高時SNR越高,當磁島較低時加高磁島對SNR的提高尤為明顯,而當磁島較高時對其進一步提高所呈作用已不明顯。通過減小磁頭-介質(zhì)間距對SN