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文檔簡介
1、電沉積法在當今箔材制備領域中占有重要地位,是一種很有發(fā)展前景的材料制造技術。電沉積法制備Ni-Fe合金箔對合金電沉積技術的發(fā)展,具有很高的理論研究和實際應用價值。電沉積Ni-Fe合金箔可用于電池極板、磁屏蔽和卷繞鐵芯等領域,其性能優(yōu)異,制備工藝簡單,并能實現(xiàn)連續(xù)化生產,成本低,因而具有廣闊的市場應用和發(fā)展前景。
本文重點研究了Ni-Fe合金箔材料的電沉積方法和工藝,采用SEM、EDS、XRD現(xiàn)代分析技術,電化學測量技術,目
2、的是為了研究電沉積工藝條件對Ni-Fe合金箔成分、微觀結構、硬度和耐蝕性的影響;并在鍍液中添加少量的稀土(Sm2O3,CeCl3·7H2O,La2O3),考察其對鍍層結構和性能的影響。這些研究對獲得致密、光亮及性能優(yōu)良的Ni-Fe合金箔鍍層具有重要意義。具體內容如下:
(1)采用正交實驗優(yōu)化直流電沉積Ni-Fe合金箔鍍層的工藝配方,并迸一步通過對比實驗,分析單個因素(電流密度,pH值,溫度,時間,F(xiàn)eSO4·7H2O質量濃
3、度,H3BO3質量濃度,NaCl質量濃度,C12H25SO4Na質量濃度,糖精質量濃度,1,4-丁炔二醇質量濃度,C6H5Na3O7·2H2O質量濃度)對Ni-Fe合金箔沉積速率、顯微硬度和鍍層中鐵的質量分數(shù)的影響。
確定直流電沉積Ni-Fe合金箔的最佳工藝條件為:電流密度15A/dm2,pH值3.0~3.5,溫度60℃,時間40~50min,NiSO4·6H2O200g/L,F(xiàn)eSO4·7H2O20g/L,H3BO340
4、~45g/L,NaCl10g/L,C12H25SO4Na0.1g/L,糖精3g/L,1,4-丁炔二醇0.2g/L,C6H5Na3O7·2H2O25g/L。通過此最佳工藝條件可以制得Ni-25.68%Fe合金箔,且合金箔尺寸細小,大小均勻,結構致密,表面平整無空洞,無缺陷。
(2)在直流電沉積Ni-Fe合金箔的最佳工藝的基礎上,采用脈沖電沉積Ni-Fe合金箔,確定脈沖電沉積Ni-Fe合金箔的最佳工藝條件為:正向電壓0.6V,
5、反向電壓6.0V,占空比90%,時間40min,頻率10Hz,電流密度23.75A/dm2,可以獲得Ni-25.66%Fe合金箔鍍層,且該工藝條件下的鍍層肉眼觀察光亮平整,結晶細致,與直流電沉積制得的Ni-25.68%Fe合金箔相比,脈沖電沉積制得的Ni-25.66%Fe合金箔成分與之相近,且比Ni-25.68%Fe晶粒細小,其鍍層更加致密,硬度、耐蝕性和抗高溫氧化性也比Ni-25.68%Fe好。
(3)在鍍液中添加稀土(
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