中空二氧化硅納米粒子制備減反射薄膜的研究.pdf

1、D i s s e r t a t i o nS u b m i t t e d t oZ h e j i a n g U n i v e r s i t y o f T e c h n o l o g yf o rM a s t e rD e g r e eo f S c i e n c e⑧S T 叨D Y O N A N T Ⅱ冱F L E C T l 0 N C O A T I N G S P R E P A R E D B Y

2、H O L L O W S I L I C A N A N O P A R T I C L E SS u b m i t t e d b yC h e n X u e l i a nS u p e r v i s e d e r v l s e O1 1 9 v VJ i a n gC h u n y u eC o l l e g e o f C h e m i c a l E n g i n e e r i n ga n d M a

3、t e r i a l sS c i e n c e’’’’e ii a n g1 77i v e r s i t yo fT e c h n o l o g y L h el a n gU n l v e r s l 1 e c t m o l o g yH a n g z h o u ，P ．R ．C h i n aA p r i l ，2 0 1 4中空二氧化硅納米粒子制備減反射薄膜的研究摘要本研究采用中空二氧化硅納米粒子制備單層

4、、雙層和三層減反射薄膜，有效減少了玻璃基質(zhì)表面的反射率，主要研究?jī)?nèi)容如下：以正硅酸乙酯( T E O S ) 為殼層材料，聚丙烯酸( P A A ) 為成核材料，以傳統(tǒng)的S t o b e r 水解法為基礎(chǔ)制備中空二氧化硅納米粒子，以氨水作為引發(fā)劑，通過(guò)改變T E O S 和P A A 的用量精確調(diào)控中空二氧化硅納米粒子的空腔體積分率和粒徑，用透射電鏡( T E M ) 觀察中空二氧化硅納米粒子的核殼結(jié)構(gòu)，用激光粒度儀測(cè)量中空二氧化硅納

5、米粒子的平均粒徑。根據(jù)單層膜、雙層膜、三層膜的膜系設(shè)計(jì)的理論厚度和折射率選擇具有合適粒徑和空腔體積分率的中空二氧化硅納米粒子，采用自組裝法制備了單層、雙層和三層減反射薄膜。主要研究了自組裝次數(shù)、中空二氧化硅納米粒子分散液的p H 值以及中空二氧化硅納米粒子的粒徑和空腔體積分率對(duì)減反射薄膜透光率的影響。通過(guò)酸洗工藝，將自組裝次數(shù)由1 0 次減少為2 次，簡(jiǎn)化了涂膜的工藝條件。用紫外．可見分光光度計(jì)測(cè)試單層減反射薄膜在3 5 0 ．8 0