新型納米結構二氧化硅減反射膜的研究.pdf

1、在各種光學和光電系統(tǒng)中，減反射薄膜的廣泛應用使得光電元器件的品質(zhì)有了很大的提高。SiO2作為一種低折射率的透明材料，其優(yōu)良的光學特性和穩(wěn)定的化學特性使其被廣泛地應用在減反射薄膜領域。最近的研究表明，納米柱狀SiO2薄膜具有密度低、折射率可調(diào)、易于制備等特點，當用作減反射薄膜時，其反射率可低于1％，明顯優(yōu)于傳統(tǒng)SiO2薄膜，可應用于光學器件、傳感器、集成電路和太陽能電池等領域。目前，納米柱狀SiO2減反射薄膜的研究已成為一個研究熱點。

2、r>　　 論文通過對常規(guī)單層、雙層和多層減反射薄膜原理的分析，引入了基于嚴格耦合波分析技術的計算機模擬方法，建立了納米柱狀SiO2減反射薄膜的模型。通過調(diào)節(jié)相應參數(shù)，模擬不同膜厚(柱高)、不同半徑情況下的反射率，分析了各種參數(shù)對反射率曲線的影響，定性地對反射率曲線進行了解釋。依據(jù)模擬結果，優(yōu)化了納米柱狀SiO2減反射膜的結構參數(shù)。
　　 采用超高真空電子束蒸發(fā)的方法在Si襯底上制備納米柱狀SiO2減反射薄膜，并用SEM和分光光

3、度計分別對樣品的形貌和反射性能進行了表征和測試。所制備的減反射薄膜具有明顯的柱狀結構，膜層厚度、柱體大小和柱間距隨著實驗參數(shù)的改變有著較大的變化。當加速極電壓較高和鍍膜時間較長時，膜層較厚，結構較致密，反射率較高；當加速極電壓較低和鍍膜時間較短時，膜層較薄，結構較疏松，反射率較低。從測試數(shù)據(jù)來看，這種新型結構的減反射薄膜在紫外波段反射率較高，在可見光波段和近紅外波段反射率較低，最小反射率達到了10％，達到了一定的減反射效果。這些初步的研