浸液溫度控制建模與算法實現(xiàn).pdf

1、浸沒式光刻機是目前市場上最主流的高端光刻機，它通過在投影光刻機投影物鏡的最后一個鏡片與硅片之間充滿浸液來提高光刻的焦深和分辨率。浸沒式光刻機要求浸液不引入二次污染并且溫度具有高精度和高穩(wěn)定度。為了實現(xiàn)高精度和高穩(wěn)定度的浸液溫度控制，需要建立精確的浸液溫控模型和相應(yīng)的溫度控制算法。本文主要研究工作和結(jié)論如下：
　　分析了浸液溫控的技術(shù)需求和相關(guān)約束，設(shè)計了一種調(diào)節(jié)冷卻水通過熱交換器的流量控制浸液溫度穩(wěn)定性的浸液溫控原理。該原理中通過

2、引入旁路提升浸液流量、提高溫度穩(wěn)定性，通過支路直接純水泵增壓和流量伺服閥調(diào)流方式穩(wěn)定注液。
　　高精度、高穩(wěn)定性溫度控制具有時滯、多擾動和非線性特征，為此本文提出了一種時滯補償，擾動抑制的串級控制結(jié)構(gòu)，減小了時滯和環(huán)境擾動對溫度控制穩(wěn)定性的影響，并采用“灰色”辨識方法獲得了溫控系統(tǒng)導(dǎo)前區(qū)模型參數(shù)、惰性區(qū)模型參數(shù)和環(huán)境擾動模型。
　　基于上述模型提出了浸液溫控算法，算法主控制器采用階梯算法，副控制器采用積分分離PI算法，擾動抑