光學(xué)表面超微細(xì)結(jié)構(gòu)減反射理論與技術(shù)研究.pdf

1、該文對(duì)亞微米、亞波長(zhǎng)微結(jié)構(gòu)減反膜的光學(xué)特性理論、設(shè)計(jì)和分析理論以及亞波長(zhǎng)微結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)方法--超微細(xì)加工技術(shù)展開了一系列研究工作.利用最先進(jìn)的電子束直寫系統(tǒng)進(jìn)行亞微米線寬的光刻研究.提出了用反應(yīng)離了刻蝕和反應(yīng)離子束刻蝕技術(shù)進(jìn)行微細(xì)圖形的刻蝕傳遞,成功制作了400nm周期等間隔的超微減反射光柵.文中針對(duì)亞波長(zhǎng)超微細(xì)結(jié)構(gòu)的一種典型應(yīng)用,對(duì)超微細(xì)結(jié)構(gòu)的減反射特性進(jìn)行了研究和總結(jié).等效介質(zhì)理論是一種標(biāo)量電磁場(chǎng)理論,通過適當(dāng)?shù)慕朴煤?jiǎn)單的表達(dá)式將周期

2、性結(jié)構(gòu)的表面等價(jià)于各向異性或各向同性介質(zhì).通過薄膜設(shè)計(jì)的方法,對(duì)中種面形結(jié)構(gòu)、光柵深度、入射波長(zhǎng)以及入射角度等參數(shù)對(duì)減反射效果的影響進(jìn)行了全面的分析和研究.BKK矢量分析法對(duì)光柵衍射效率進(jìn)行了分析,并首次提出用BKK方法進(jìn)行零級(jí)衍射效率--即微結(jié)構(gòu)表面透過小和反射率的分析.該文對(duì)超微細(xì)結(jié)構(gòu)制作技術(shù)進(jìn)行了研究,采用電子束直寫技術(shù)進(jìn)行亞微米結(jié)構(gòu)的光刻,詳細(xì)討論了電子束直寫制作工藝和曝發(fā)參量對(duì)光刻質(zhì)量的影響.研究了電子束光刻中的近距離效應(yīng),采