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文檔簡介
1、目的:
比較不同表面處理方法對氧化鋯基底與飾面瓷之間的結(jié)合強度及結(jié)合界面微觀結(jié)構(gòu)的影響,為探討氧化鋯胚體燒結(jié)前噴砂處理及結(jié)合襯底瓷的應(yīng)用能否提高氧化鋯基底冠與飾面瓷的結(jié)合強度提供理論依據(jù)。
方法:
將WIELAND氧化鋯瓷塊胚體切割成12mm×6.25 mm×6.25 mm并燒結(jié)制成10mm×5mm×5mm大小試件共30個。將試件隨機分為三組,每組10個。噴砂組在燒結(jié)前進行噴砂處理,處理劑組先噴砂處理后燒結(jié)
2、冷卻,再燒結(jié)結(jié)合襯底瓷,對照組拋光后直接燒結(jié)。3組基底瓷材料采用粉漿涂塑法燒結(jié)5mm×5mm×5mm厚的飾面瓷。每組隨機抽取1個基底瓷及雙層瓷試件,采用掃描電子顯微鏡、能譜分析方法,研究氧化鋯底瓷與飾面瓷之間的結(jié)合情況。所有試件通過電子拉伸機測試結(jié)合界面的剪切強度,并對實驗數(shù)據(jù)用SPSS17.0軟件進行統(tǒng)計學(xué)分析。
結(jié)果:
1.剪切強度測試結(jié)果
噴砂組的剪切強度為(18.06±0.59) MPa,處理劑組的
3、剪切強度為(21.04±1.23) MPa,對照組的剪切強度為(13.80±1.54) MPa,各組結(jié)果間的差異均有統(tǒng)計學(xué)意義(P<0.05)。
2.掃描電鏡觀察結(jié)果
氧化鋯陶瓷表面
噴砂組及處理劑組:氧化鋯試件表面形成了不規(guī)則的凹陷和凸起。
對照組:氧化鋯試件表面可見規(guī)則而清晰的溝槽和嵴,但深度并不明顯。
結(jié)合界面
噴砂組與處理劑組:二者緊密結(jié)合無間隙,并有明顯的鑲嵌融合。<
4、br> 對照組:二者結(jié)合界面平直,且結(jié)合較為緊密無明顯相互滲透嵌合。
3.能譜分析結(jié)果
噴砂組:Zr元素在結(jié)合界面處急劇下降,在飾瓷側(cè)可檢測到微量的Zr元素;Si元素在界面處下降較快,底瓷側(cè)可檢測到少量Si元素;Al元素在結(jié)合界面處下降較為緩慢。
處理劑組:Zr元素在結(jié)合界面處急劇下降,但在飾瓷側(cè)的含量升高;Si元素在界面處下降較快,底瓷側(cè)可檢測到少量Si元素;Al元素在結(jié)合界面處下降較為緩慢。
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