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1、X射線(xiàn)殘余應(yīng)力測(cè)定一、材料中內(nèi)應(yīng)力的分類(lèi)1、引言當(dāng)產(chǎn)生應(yīng)力的因素不存在時(shí)(如外力去除、溫度已均勻、相變結(jié)束等),由于材料內(nèi)部不均勻塑性變形(包括由溫度及相變等引起的不均勻體積變化),致使材料內(nèi)部依然存在并且自身保持平衡的彈性應(yīng)力稱(chēng)為殘余應(yīng)力,或內(nèi)應(yīng)力。一方面,殘余應(yīng)力可能對(duì)材料疲勞強(qiáng)度及尺寸穩(wěn)定性等均成不利的影響。另一方面,為了改善材料的表層性能(如提高疲勞強(qiáng)度),有時(shí)要在材料表面還要引入壓應(yīng)力(如表面噴丸)。當(dāng)多晶材料中存在內(nèi)應(yīng)力時(shí),
2、必然還存在內(nèi)應(yīng)變與之對(duì)應(yīng),導(dǎo)致其內(nèi)部結(jié)構(gòu)(原子間相對(duì)位置)發(fā)生變化。從而在X射線(xiàn)衍射譜線(xiàn)上有所反映,通過(guò)分析這些衍射信息,就可以實(shí)現(xiàn)內(nèi)應(yīng)力的測(cè)量。2、內(nèi)應(yīng)力的分類(lèi)材料中內(nèi)應(yīng)力可分為三大類(lèi)。第I類(lèi)應(yīng)力,應(yīng)力的平衡范圍為宏觀尺寸,一般是引起X射線(xiàn)譜線(xiàn)位移。當(dāng)材料中存在壓應(yīng)力時(shí),其晶面間距及衍射角的變化與拉應(yīng)力相反。材料中宏觀應(yīng)力越大,不同方位同族晶面間距或衍射角之差異就越明顯,這是測(cè)量宏觀應(yīng)力的理論基礎(chǔ)。上述規(guī)律適用于單向應(yīng)力、平面應(yīng)力以及
3、三維應(yīng)力的情況。B、第II類(lèi)內(nèi)應(yīng)力第II內(nèi)應(yīng)力是一種微觀應(yīng)力,其作用與平衡范圍為晶粒尺寸數(shù)量級(jí)。在X射線(xiàn)的輻照區(qū)域內(nèi),有的晶粒受拉應(yīng)力,有的則受壓應(yīng)力。不同取向晶粒中同族晶面間距差異不大。各晶粒的同族(hkl)晶面具有一系列不同的晶面間距dhklΔd值。因此,在材料X射線(xiàn)衍射信息中,不同晶粒對(duì)應(yīng)的同族晶面衍射譜線(xiàn)位置將彼此有所偏移。各晶粒衍射線(xiàn)將合成一個(gè)在2θhklΔ2θ范圍內(nèi)的寬化衍射譜線(xiàn)。材料中第II類(lèi)內(nèi)應(yīng)力(應(yīng)變)越大,則X射線(xiàn)衍
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