ITO導(dǎo)電玻璃化學(xué)鍍鎳及鍍鎳層的性能研究.pdf

1、由于ITO(氧化銦錫)透明導(dǎo)電薄膜特殊的光學(xué)性能和電學(xué)性能,被廣泛用于觸摸屏、顯示器、有機發(fā)光二極管以及太陽能電池等領(lǐng)域中,帶來巨大的經(jīng)濟效益。其在應(yīng)用當(dāng)中,有些ITO線路需要進行局部金屬化,在其表面鍍上一層鎳,鎳層的質(zhì)量至關(guān)重要,需要對鍍鎳工藝及配方進行研究。本文主要研究化學(xué)沉積法對ITO導(dǎo)電玻璃進行選擇性金屬化和磁控濺射法在ITO面上鍍鎳的研究。目前化學(xué)鍍鎳廣泛的應(yīng)用于航天、化工、電子、鋼鐵防腐等行業(yè),全世界科研工作者對化學(xué)鍍鎳也做

2、了廣泛的研究,但針對于ITO導(dǎo)電玻璃上選擇性化學(xué)鍍鎳的研究還比較少。
　　關(guān)于ITO表面金屬化,本論文分別從鍍鎳液的配方、鍍鎳工藝以及鍍前處理等多方面系統(tǒng)的進行了研究,并將化學(xué)沉積法所得鍍鎳層與磁控濺射法得到的鍍鎳層進行對比。在鍍鎳液配方設(shè)計過程中,結(jié)合ITO的特性,通過多次試驗,綜合考慮,確定了鍍鎳液配方。通過實驗結(jié)果對比,確定了以過二硫酸鉀為酸性刻蝕液,刻蝕液溫度為30℃,刻蝕時間為2~4min,刻蝕效果良好。
　　在傳

3、統(tǒng)敏化活化鍍鎳步驟中,發(fā)現(xiàn)氯化亞錫不可用于敏化液中,氯化亞錫的加入將導(dǎo)致施鍍過程中鎳原子沒有選擇性的沉積在玻璃面上,用亞銅離子代替亞錫離子應(yīng)用于敏化液中,解決了氯化亞錫帶來的無選擇性問題。本次實驗中還創(chuàng)新的提出無敏化鍍鎳法,即省去了敏化步驟,依次經(jīng)過催化、活化、還原,這種方法配制出來的鍍前處理液穩(wěn)定,可長時間使用。最后用磁控濺射的方法制備鎳層,并與化學(xué)鍍鎳層進行對比。
　　通過外觀目測、劃格附著力測定法、掃描電子顯微鏡觀測法對鍍鎳