軟刻蝕用母模板的聚焦離子束刻蝕技術制備研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、聚二甲基硅氧烷（polydimethylsiloxane，以下簡稱 PDMS）軟模板在生物醫(yī)藥、物理化學等領域具有重要的應用價值。而PDMS軟模板的制備源于母模板結構的制造，因此制備出高分辨率、精細的三維母模板結構是PDMS軟模板結構的關鍵。一般以光刻膠、Si和SiO2等作為母模板結構，目前加工母模板結構的方法有干涉光刻技術和電子束光刻技術等。但是這些方法制備PDMS軟刻蝕用母模板工藝復雜，需要旋涂光刻膠、曝光、顯影、定影和反應離子束刻

2、蝕等步驟，并且其加工的結構一般為準三維結構。
　　基于上述情況，本文提出利用聚焦離子束刻蝕技術制備PDMS軟刻蝕用母模板，并在Si基底上制備出15μm×15μm的輪廓清晰的三維結構母模板，三甲基氯硅烷作為抗粘連層旋涂于Si基底表面，其后旋涂 PDMS預聚物復制模鑄出與Si基底表面圖案互補的三維結構。
　　通過接觸角測量儀對Si基底表面疏水性能和用AFM對PDMS樣品表面形貌進行表征。研究結果表明，特征圖形及小尺寸結構都得到了

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