工作參數(shù)對Zn-,1-x-Fe-,x-O薄膜結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的影響.pdf

1、本論文采用射頻磁控技術在Si(111)和Al<,2>O<,3>基片上在不同的工作參數(shù)下制備了Zn<,1-x>Fe<,x>O薄膜，研究了工作參數(shù)對Zn<,1-x>Fe<,x>O薄膜結(jié)構(gòu)的影響，重點研究了不同濃度Fe摻雜對ZnO薄膜結(jié)構(gòu)和光、磁學性質(zhì)的影響。在實驗中，用Ar作為工作氣體，用高純ZNO(99.99％)靶制備ZnO薄膜，為了實現(xiàn)摻雜Fe元素，在高純ZnO靶表面均勻地粘上鐵片，用共濺射的方法制備了Zn<,1-x>Fe<,x>O薄膜

2、，通過改變鐵片的數(shù)量來改變摻雜量。 Zn<,1-x>Fe<,x>O薄膜的XRD表明，隨著Zn<,1-x>Fe<,x>O薄膜中Fe含量的增加，薄膜的(002)和(004)衍射峰峰位向小角移動，并且半高寬變大。同時當x=0.212時，出現(xiàn)了Fe(110)和ZnO(101)的衍射峰。結(jié)合樣品的XRD譜和XPS譜的結(jié)果，推斷Fe在樣品中的摻雜方式屬于替位式摻雜，替代了ZnO中部分Zn<'2+>的位置，在ZnO中的溶解度小于0.212。