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1、雙鈣鈦礦氧化物Sr2FeMoO6被發(fā)現(xiàn)具有室溫低場(chǎng)磁電阻效應(yīng),因而被視為最有可能在室溫下使用的磁電阻材料,其磁電阻效應(yīng)在大密度磁記錄、傳感器開關(guān)等領(lǐng)域的誘人前景及其物理上的深刻內(nèi)涵成為當(dāng)前材料學(xué)領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。近年來由于薄膜技術(shù)的發(fā)展,使在較低溫度下沉積高質(zhì)量的外延或擇優(yōu)取向的薄膜成為可能。對(duì)于磁性材料的應(yīng)用要求提出薄膜化、小型化和高集成度,在這種研究背景下,對(duì)磁電阻行為優(yōu)異的雙鈣鈦礦材料薄膜化就具有十分重要的研究意義和應(yīng)用價(jià)值。雙鈣鈦
2、礦薄膜電磁性質(zhì)是研究該材料的重要內(nèi)容之一。由于制備技術(shù)和工藝的差別,尤其是制備薄膜所選取的襯底、薄膜制備的溫度及薄膜厚度等條件影響,雙鈣鈦礦的電磁性能表現(xiàn)出很大的差異?;诖苏J(rèn)識(shí),本論文采用脈沖激光技術(shù)在SrTiO3(100)和LaAlO3(100)(110)在不同溫度下,制備了不同厚度的雙鈣鈦礦Ba2FeMoO6薄膜,并且測(cè)量了薄膜的電磁性質(zhì),以期望研究得出Ba2FeMoO6薄膜合適的生長(zhǎng)條件,同時(shí)發(fā)現(xiàn)襯底、生長(zhǎng)溫度和薄膜厚度,對(duì)電磁
3、性質(zhì)的影響,并對(duì)該影響進(jìn)行解釋。本論文的主要研究?jī)?nèi)容如下: 1、采用溶膠—凝膠法制備了Ba2FeMoO6材料的陶瓷靶材,通過X射線圖樣表明為單相的雙鈣鈦礦結(jié)構(gòu);首次用脈沖激光沉積技術(shù)制備了雙鈣鈦礦Ba2FeMoO6薄膜,在SrTiO3(100)和LaAlO3(100)(110)襯底上分別在700℃、800℃和900℃下生長(zhǎng)了厚度為100nm的Ba2FeMoO6薄膜,X射線測(cè)試表明,Ba2FeMoO6薄膜基本沿襯底晶向取向生長(zhǎng),但
4、是也有一定幾率生長(zhǎng)出Ba2FeMoO6的(222)衍射峰,原因可能是因?yàn)橐r底和Ba2FeMoO6薄膜的晶格失配引起的。在不同襯底不同生長(zhǎng)溫度下,生長(zhǎng)出的Ba2FeMoO6薄膜的衍射峰強(qiáng)度有明顯變化,說明在沉積速率相同的情況下,溫度對(duì)不同晶面的影響是不一樣的;在800℃下,用脈沖激光沉積技術(shù)在SrTiO3(100)襯底上生長(zhǎng)了100nm-250nm的Ba2FeMoO6薄膜,沿襯底晶向取向生長(zhǎng)的Ba2FeMoO6(200)和(400)衍射峰
5、逐漸增強(qiáng),表明在相同溫度相同襯底的條件下,隨著薄膜的生長(zhǎng),系統(tǒng)的晶格匹配程度提高,較厚的薄膜質(zhì)量較高。 2、通過原子力顯微鏡表征Ba2FeMoO6薄膜的表面形態(tài),薄膜表面起伏比較大,原因是采用高真空鍍膜影響了薄膜表面的平整度,在LaAlO3襯底上生長(zhǎng)的Ba2FeMoO6薄膜出現(xiàn)條紋型空洞,表明在該襯底上生長(zhǎng)Ba2FeMoO6薄膜的過程中,島嶼模式生長(zhǎng)比較嚴(yán)重,表面平整度低于在SrTiO3襯底上面生長(zhǎng)的Ba2FeMoO6薄膜。
6、 3、測(cè)量所制備的Ba2FeMoO6薄膜的M—H曲線,通過計(jì)算得到每分子飽和磁矩,在相同襯底不同溫度下生長(zhǎng)的同厚度Ba2FeMoO6薄膜,其飽和磁矩伴隨溫度的升高而增大,原因可能是在高溫下Ba2FeMoO6薄膜形成了較少的反位缺陷,反位缺陷的減少使薄膜的飽和磁矩增大;在相同襯底相同溫度下,Ba2FeMoO6薄膜的飽和磁矩伴隨溫度的升高而下降,根據(jù)薄膜的表面形態(tài)觀察,薄膜生長(zhǎng)不均勻,伴隨薄膜厚度的增加,表面應(yīng)力逐漸增大,使其飽和磁矩下
7、降;在相同溫度,不同襯底,不同晶向生長(zhǎng)的相同厚度的Ba2FeMoO6薄膜,其飽和磁矩的變化是,在SrTiO3(100)襯底上生長(zhǎng)的大于在LaAlO3(100)上生長(zhǎng)的大于在LaAlO3(110),推測(cè)原因是,在襯底形成的反位缺陷,SrTiO3(100)大于LaAlO3(100)大于LaAlO3(110)。但是該推測(cè)仍需進(jìn)一步實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。 測(cè)量了各薄膜材料的電阻率,在不同襯底上生長(zhǎng)的Ba2FeMoO6薄膜的電阻率變化很大,靶材電阻率
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