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文檔簡介
1、論文從三價鉻鍍液中電沉積非晶態(tài)鐵鉻合金鍍層,研究了甘氨酸濃度、電流密度、pH值和溫度等工藝參數(shù)對鍍層中鉻含量的影響,以及添加劑和雜質(zhì)離子對電沉積過程的影響.用掃描電子顯微鏡（SEM）方法觀察了不同沉積時間及添加劑加入后鐵鉻合金鍍層的表面形貌.用X光電子能譜（XPS）分析了電沉積初始階段的藍(lán)膜組成和鐵鉻合金鍍層中鐵和鉻的存在形式.用X射線衍射（XRD）方法分析了不同合金組成下的鍍層結(jié)構(gòu).通過鍍層的陽極極化曲線的測定,比較了晶態(tài)與非晶態(tài)結(jié)構(gòu)
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