基于倏逝波干涉的亞波長(zhǎng)光柵制作方法研究.pdf

1、倏逝波干涉光刻是利用近場(chǎng)倏逝波干涉制作出周期性亞波長(zhǎng)光柵或者微結(jié)構(gòu)的一種無(wú)掩膜光刻技術(shù)。倏逝波憑借更高的空間頻率能夠突破自由空間中2/l干涉極限，因此倏逝波干涉光刻技術(shù)在超精密光刻領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值，在此背景下，本論文的主要工作就是圍繞倏逝波干涉研究亞波長(zhǎng)光柵的制作方法。
　　本文首先闡述了倏逝波的實(shí)質(zhì)意義、特性以及產(chǎn)生方法，得出倏逝波是一種沿表面?zhèn)鞑サM(jìn)入透射介質(zhì)中會(huì)呈指數(shù)衰減的電磁模式，并且可以通過(guò)全內(nèi)反射機(jī)制激發(fā)產(chǎn)生；

2、其次論文利用三維矩陣法探討倏逝波干涉光刻技術(shù)，主要分析不同參數(shù)對(duì)雙束和多束倏逝波干涉情況的影響，同時(shí)介紹了基于液浸光刻干涉系統(tǒng)原理的雙束倏逝波干涉光刻系統(tǒng)，其研究表明提高入射介質(zhì)的折射率可以提高光刻曝光深度；對(duì)于入射波的不同偏振態(tài)，結(jié)果發(fā)現(xiàn)S波全內(nèi)反射產(chǎn)生的倏逝波仍為S偏振，而P波全反射產(chǎn)生的倏逝波為橢圓偏振。而且兩種偏振下的倏逝波干涉圖樣存在差異，若進(jìn)一步考慮到多束倏逝波干涉和相位調(diào)制，則干涉圖樣就更豐富復(fù)雜。由于全內(nèi)反射產(chǎn)生的倏逝波