酰胺基稀土配合物的合成與表征.pdf

1、目前，稀土氧化物薄膜在許多不同技術(shù)領(lǐng)域被廣泛運用，其介電常數(shù)(k（La2O3)=27, k（Gd2O3)=16)較高，在硅襯底上熱力學穩(wěn)定(高于ZrO2和HfO2)，因此在高K材料方面將會有良好的應(yīng)用前景。由于稀土氧化物在高K材料方面的潛在利用價值，使金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)和原子層沉積(ALD)等制備高質(zhì)量薄膜相關(guān)技術(shù)得到了高速發(fā)展。但是兩種技術(shù)都要求能夠設(shè)計并合成出具有合理揮發(fā)性的稀土配合物前驅(qū)體，這對合成化學家將是一個巨

2、大的挑戰(zhàn)。
　　 本論文主要工作包括以下兩個方面：
　　 一、均配型酰胺基稀土配合物的合成與表征：
　　 無水三氯化鑭和酰胺的鋰鹽按摩爾比1:3的比例，在嚴格無水無氧的條件下，合成了一系列均配型酰胺基稀土配合物La[R'(NCO)R]3×nC7H8（2a: R=Ph, R'=I-Pr, n=1; 2b: R=Ph, R'=t-Bu, n=0; 2c: R=Ph, R'=Cy, n=1; 2d: R=Ph, R'=

3、I-Bu, n=0; 2e: R=I-Pr, R'=Cy, n=0; 2f: R=I-Pr, R'=t-Bu, n=0; 2g: R=t-Bu, R'=I-Pr, n=0). 并對所合成的配合物用元素分析、核磁共振氫譜和碳譜等方法進行了表征，最后利用TG-DSC對合成的部分配合物的熱穩(wěn)定性和分解機理進行了初步研究，還對配體[t-Bu(NHCO)Ph]進行了X-射線單晶衍射測試。
　　 二、陰離子型酰胺基稀土/堿金屬配合物的合成與

4、表征：
　　 無水三氯化釓和酰胺的鋰鹽按摩爾比1:3的比例，在嚴格無水無氧的條件下，合成了一系列陰離子型酰胺基稀土/堿金屬配合物{GdLi[R'(NCO)R]4}m×nC7H8（3a: R=Ph, R'=I-Pr, n=0; 3b: R=Ph, R'=t-Bu, m=2, n=2; 3c: R=Ph, R'=Cy, m=2, n=2; 3d: R=Ph, R'=I-Bu, n=0; 3e: R=I-Pr R'=Cy, n=0;

5、3f: R=I-Pr R'=t-Bu, n=0; 3g: R=t-Bu, R'=I-Pr, n=0). 并對所合成的配合物用元素分析、X-單晶衍射等方法進行了表征。配合物Gd2Li2[t-Bu(NCO)Ph]8×2C7H8（3b), 單斜晶系P21/n，a=16.890（3)?, b=13.234（2)?, c=23.402（3)?, α=90°, β=109.65（3)°, γ=90°, Z=2. 配合物Gd2Li2[C6H11(NC