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1、利用輝光放電形成的含氮低溫等離子體對(duì)金屬表面進(jìn)行氮化處理是一種常用的化學(xué)熱處理工藝。經(jīng)過(guò)氮化處理的制品具有優(yōu)異的耐磨性、耐疲勞性、耐腐蝕性及耐高溫的特性。在含氮低溫等離子體中存在大量分子離子、自由基和激發(fā)態(tài)原子、分子等瞬態(tài)物質(zhì)。對(duì)含氮低溫等離子體的激光光譜研究將有助于深入了解氮化處理過(guò)程,改進(jìn)或發(fā)明新的氮化處理技術(shù)。
利用中紅外速度調(diào)制技術(shù)和濃度調(diào)制技術(shù),本文研究了N2O輝光放電形成的低溫等離子體的吸收光譜,在1722—1
2、831cm—1范圍內(nèi)測(cè)量到了大量分子離子和激發(fā)態(tài)中性分子的吸收譜線。這些分子離子的吸收譜線最有可能屬于N2O+v3的振動(dòng)帶,但是它們的分子載體和標(biāo)識(shí)目前還不能確定。
為了鑒別在N2O輝光放電中測(cè)量到的激發(fā)態(tài)中性分子,本文研究了N2輝光放電形成的低溫等離子體的吸收光譜,在1742—1846cm—1范圍內(nèi)測(cè)量到了233條中性分子吸收譜線,其中有65條譜線可以標(biāo)識(shí)為N2的B3Пg—W3△u躍遷的(1→0)和(2→1)兩個(gè)振動(dòng)帶,
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