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文檔簡(jiǎn)介
1、隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,晶體制成的各種光學(xué)器件越來(lái)越被人們所重視,各種新技術(shù)不斷被應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域,尤其是在光電技術(shù)和通信領(lǐng)域。因此光在晶體中傳播的相關(guān)性質(zhì)的研究越來(lái)越受到人們的關(guān)注,并且光波在晶體界面上的菲涅爾反射是造成光學(xué)器件插入損耗的一個(gè)主要因素。
本論文利用折射率面和電磁場(chǎng)邊界條件,通過(guò)幾何作圖分析法,分析了非常偏振光和常偏振光在兩個(gè)不同單軸晶體表面的折射反射情況。具體成果如下:
研究了單軸晶體光軸任意,非常偏振光
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