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1、中文摘要 本論文分別對物理電子學(xué)中的若干問題進行了數(shù)值模擬研究,對傳統(tǒng)的高能離軸電子全息和新型的低能同軸電子全息高分辨率數(shù)值重現(xiàn)進行了計算機模擬研究,提出了Ehrlich-Schwoebel勢壘修正的動態(tài)連續(xù)運動方程,模擬了不同參數(shù)(溫度、入射離子能量)下的濺射結(jié)果;在大束流密度的情況下,由于濺射出的Si原予與入射粒子碰撞幾率增大而重新沉積回濺射表面,本文在運動方程中又引入了抑制項,同樣給出了在相同入射離子劑量下的實驗和模擬結(jié)果。通
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