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文檔簡介
1、第三代半導(dǎo)體中的碳化硅(Silicon Carbide, SiC)材料,以擁有許多獨(dú)特而優(yōu)越的物理特性,諸如寬禁帶,高熱導(dǎo)率,高臨界擊穿電場,高電子漂移速度等而備受關(guān)注。在功率半導(dǎo)體器件領(lǐng)域,隨著Si基器件技術(shù)的完備,取得新突破變得比較困難,SiC基器件相比 Si基器件有著更高的耐壓,更高功率密度,更快的開關(guān)速度等優(yōu)勢,擁有更寬廣的應(yīng)用前景和研究價(jià)值。國內(nèi)的 SiC功率器件研究起步較晚,研究水平落后于國際先進(jìn)水平。本文以高壓4H-SiC
2、 PiN二極管為研究對象,對其結(jié)構(gòu)進(jìn)行了設(shè)計(jì)和優(yōu)化,并結(jié)合國內(nèi)工藝試驗(yàn)條件,進(jìn)行流片實(shí)驗(yàn)和測試分析,旨在為國內(nèi)高壓4H-SiC PiN二極管的研究提供參考。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴通過Silvaco半導(dǎo)體數(shù)值仿真軟件,設(shè)計(jì)優(yōu)化了4500V高壓SiC PiN二極管結(jié)構(gòu)。其中,元胞漂移區(qū)厚度為40μm,擊穿電壓為5600V,正向電流密度為100A/cm2時(shí)的開啟電壓為3.5V。器件終端采用臺(tái)面結(jié)終端拓展(Junction Term
3、ination Extension, JTE)型結(jié)終端結(jié)構(gòu),終端效率為96%。通過仿真研究了高壓SiC PiN二極管的反向恢復(fù)特性。針對SiC PiN二極管的電導(dǎo)調(diào)制問題,研究了SiC材料中深能級(jí)對載流子壽命的影響,并通過仿真驗(yàn)證了不同載流子壽命下SiC PiN二極管的正向?qū)ㄌ匦宰兓?。⑵開展了高壓SiC PiN二極管的關(guān)鍵制造工藝技術(shù)研究,優(yōu)化開發(fā)出:高質(zhì)量、低損傷、無微溝槽的SiC臺(tái)面ICP刻蝕工藝技術(shù),以及低比接觸電阻率的P型和N
4、型SiC材料的金屬-半導(dǎo)體歐姆接觸工藝技術(shù)。通過關(guān)鍵制造工藝技術(shù)的研發(fā),獲得了角度31~49°,高度為2μm的SiC臺(tái)面結(jié)果和比接觸電阻率為1e-6Ω·cm2的N型歐姆接觸,5e-5Ω·cm2的P型的歐姆接觸結(jié)果。⑶制定了高壓SiC PiN二極管的工藝流程,進(jìn)行了高壓SiC PiN二極管的流片實(shí)驗(yàn)研制,并對實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行了測試與分析。測試結(jié)果表明:SiC PiN二極管的正向?qū)▔航导s為3.4V@100A/cm2,正向?qū)妷?V時(shí)正向?qū)?/p>
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