稀土摻雜ZnTe納米薄膜制備及特性研究.pdf

1、利用真空蒸發(fā)方法制備了ZnTe納米多晶薄膜，并采用雙源法對薄膜進行了稀土元素Dy、Pr的摻雜。在自動控溫擴散爐中有N2保護的情況下，分別在300℃、400℃、500℃下對薄膜進行熱處理，時間為10min，并采用X射線衍射儀、原子力顯微鏡對薄膜的物相結構、表面形貌進行了測試，用紫外可見分光光度計對薄膜的光學特性進行了測試，用冷熱探針、薄膜測厚儀、四探針電阻率測試儀對薄膜導電類型、厚度、折射率和電阻進行了測試。分析元素配比、熱處理溫度、摻雜

2、濃度、工藝條件對薄膜物相結構、光學特性等性質(zhì)的影響。通過分析測試結果調(diào)整并優(yōu)化薄膜的組分、工藝條件和摻雜濃度。
　　 實驗結果表明：高純單質(zhì)鋅與碲按照原子配比Zn：Te=1：0.7混合蒸發(fā)，在氮氣保護下，經(jīng)過T=500℃，時間10min的熱處理，可獲得完全為ZnTe物相的比較理想多晶薄膜。在Zn:Te=1:0.7的基礎上對薄膜進行了稀土元素Dy、Pr的摻雜。摻雜并沒有改變ZnTe的物相結構，仍為立方晶系閃鋅礦結構。但對ZnTe薄