添加劑對(duì)氨絡(luò)合體系電沉積鎳影響的研究.pdf

1、氨絡(luò)合體系電沉積金屬擁有諸多優(yōu)點(diǎn)，有望解決目前鎳工業(yè)生產(chǎn)、應(yīng)用領(lǐng)域中的不足，但氨絡(luò)合體系電沉積鎳過程中發(fā)現(xiàn)鎳沉積層出現(xiàn)發(fā)黑、發(fā)脆等問題，難以擴(kuò)大應(yīng)用領(lǐng)域。本文提出通過加入添加劑來改善氨絡(luò)合體系電沉積鎳層的形貌及性質(zhì)，并研究了陽極材料對(duì)該體系電沉積鎳的影響，取得了以下主要結(jié)果:
　　在第三章中，以不溶性電極(Ti/RuO2)為陽極，研究了單一或多種復(fù)合添加劑對(duì)氨絡(luò)合物體系電沉積鎳行為的影響。結(jié)果表明，加入苯亞磺酸鈉可制備具有金屬光澤

2、的鎳層。進(jìn)一步研究苯亞磺酸鈉的作用機(jī)理發(fā)現(xiàn)，苯亞磺酸鈉可抑制鎳的還原過程并起到細(xì)化晶粒的作用，使鎳的形核方式從瞬時(shí)成核轉(zhuǎn)變?yōu)檫B續(xù)成核。且苯亞磺酸鈉可增加中間產(chǎn)物形成的電阻、降低苯亞磺酸鈉和(NiOH)ads的吸附電容，促進(jìn)晶粒在(111)晶面的擇優(yōu)取向程度，抑制(200)和(311)晶面。長(zhǎng)時(shí)間電沉積實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)，苯亞磺酸鈉消耗量為911g/KAH。
　　在第四章中，以含硫鎳為陽極，研究了苯亞磺酸鈉對(duì)氨絡(luò)合體系電鍍鎳行為的影響。結(jié)果

3、表明，氨水濃度對(duì)苯亞磺酸鈉的消耗有明顯影響，當(dāng)氨水濃度在1～2mol/L時(shí)，苯亞磺酸鈉消耗量最低為14.88～15.75g/KAH。電沉積最佳工藝條件為1mol/L NiCl2，2mol/LNH3·H2O，4mol/L NH4Cl，100mg/L苯亞磺酸鈉，電流密度200A/m2，電解液溫度50℃，電流效率可達(dá)99.01％，鎳沉積層宏觀呈現(xiàn)光亮有金屬光澤。
　　在第五章中，以工業(yè)應(yīng)用的高冰鎳為陽極，研究了苯亞磺酸鈉對(duì)氨絡(luò)合體系電解