0.8微米低壓鋁柵關(guān)鍵工藝技術(shù)研究與設(shè)計(jì)規(guī)則優(yōu)化

1、O ．8 U M M G L V K E Y P R O C E S SD E V E L O P M E N T A N D D E S I G N R U L EO P T I M I Z EA T h e s i sS u b m i t t e d t oS o u t h e a s t U n i v e r s i t yF o r t h e A c a d e m i cD e g r e e o f M a s t

2、e r o f E n g i n e e r i n gB YX i e y a n gS u p e r v i s e d b yP r o f e s s o r W u j i na n dS e n i o r E n g i n e e r F a n g s h i l i nS c h o o lo f S o f t w a r eS o u t h e a s tU n i v e r s i t y摘要集成電路高

3、速發(fā)展的今天，鋁柵工藝作為一種成本低、工藝簡潔、流通速度快的工藝仍然在中低端消費(fèi)電子市場中占有一席之地。但是隨著成本增加，需要有更小線寬的工藝來提升工藝競爭力。在不改變現(xiàn)有工藝架構(gòu)并且不增加成本的情況下如何有效降低管芯尺寸仍然是未來工藝的發(fā)展方向。本文主要內(nèi)容就是通過半導(dǎo)體關(guān)鍵工藝步驟研究及設(shè)計(jì)規(guī)則優(yōu)化，降低管芯尺寸，提升工藝競爭能力。本文首先介紹了鋁柵工藝的發(fā)展，對于現(xiàn)有1 ．0 微米低壓鋁柵工藝進(jìn)行了分析，確定了工藝優(yōu)化方向。其次．

4、在已有的1 ．0 微米工藝基礎(chǔ)上運(yùn)用了仿真工具S c n t a u r u s T C A D ( T e c h n o l o g yC o m p u t e r - A i d e d D e s i g n 計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)) 進(jìn)行模擬，采用了工藝模擬與實(shí)際流片結(jié)合的方式，對溝道尺寸在O ．7 微米的器件進(jìn)行器件模擬、實(shí)驗(yàn)及仿真，通過調(diào)整阱濃度實(shí)現(xiàn)了節(jié)省一層光刻的目的。再次，對低壓鋁柵生產(chǎn)工藝流程中的關(guān)鍵工藝步驟濕法孔腐蝕和鋁

5、腐蝕進(jìn)行了研究，通過對于這兩個(gè)工藝步驟的研究改善，使其滿足0 ．8 微米后段工藝大規(guī)模生產(chǎn)的要求。最后，通過對比業(yè)內(nèi)其他工廠設(shè)計(jì)規(guī)則，在華潤上華1 ．0 微米低壓鋁柵基礎(chǔ)上對設(shè)計(jì)規(guī)則重新進(jìn)行制定，通過在線流片使得部分設(shè)計(jì)規(guī)則得到了優(yōu)化，在I ．0 微米低壓鋁柵工藝基礎(chǔ)上壓縮設(shè)計(jì)規(guī)則尺寸重新制定了0 ．8 微米低壓鋁柵工藝設(shè)計(jì)規(guī)則，同時(shí)在產(chǎn)品上通過了窗口驗(yàn)證確認(rèn)了工藝的穩(wěn)定性。華潤上華原1 ．0 微米低壓鋁柵工藝共有8 層光刻，本文通過T