制氫裝置操作規(guī)程

1、制氫裝置操作規(guī)程第一部分設(shè)計基礎(chǔ)資料一裝置概況1氣體組成原料氣；氫氣5.0Mpa≤40℃流量73.63Nm3h組成H2CH4CO其他合計含量V﹪97.00.1372.60.263100產(chǎn)品氫氣純度溫度壓力流量總碳99.99≤40℃≥1.5Mpa50Nm3h≤2PPm副產(chǎn)品解析氣≤40℃壓力0.02Mpa流量24Nm3h組成H2CH4CO其他合計含量V﹪90.680.438.10.8100使吸附劑能重復(fù)使用時，吸附分離工藝才有實用意義。故

2、每個吸附器在實際過程中必須經(jīng)過吸附和再生階段。對每個吸附器而言，制取凈化氣的過程是間歇的，必須采用多個吸附器循環(huán)操作，才能連續(xù)制取氫氣。本裝置采用四塔流程，簡稱４－１－２／Ｐ工藝，即采用四個吸附器，單塔進(jìn)料，二次均壓，沖洗解吸循環(huán)操作工藝，由程序控制器控制其程控閥門的動作進(jìn)行切換，整個操作過程都是在環(huán)境溫度下進(jìn)行。二工藝流程簡述來自界外的原料氣溫度≤４０℃。壓力５０Ｍｐａ，經(jīng)調(diào)節(jié)閥（ＰＣＶ－２０１）減壓至１６Ｍｐａ后進(jìn)入原料氣緩沖罐（Ｖ

3、２０１），壓力穩(wěn)定后進(jìn)入與四個吸附器（Ｔ０２０１Ａ～Ｄ）及一組程控閥組成的變壓吸附系統(tǒng)。變壓吸附系統(tǒng)采用四塔操作，經(jīng)過吸附、二次均壓降、順放、逆放、沖洗、二次均壓升、終充等工藝流程。原料氣自上而下通過其中正處于吸附狀態(tài)的吸附器，由其內(nèi)部的吸附劑進(jìn)行選擇性的吸附，原料氣中大部分Ｈ２組分在經(jīng)過吸附氣后未被吸附，在吸附壓力下從吸附器頂端流出，得到合格的產(chǎn)品氣，經(jīng)調(diào)節(jié)閥（ＰＣＶ－２０２）調(diào)節(jié)后進(jìn)入氫氣緩沖罐（Ｖ０２０２），緩沖穩(wěn)壓后經(jīng)轉(zhuǎn)子流量計