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1、無(wú)機(jī)合成化學(xué)基本題庫(kù)無(wú)機(jī)合成化學(xué)基本題庫(kù)一、問(wèn)答題1.溶劑有哪些類(lèi)型?質(zhì)子溶劑有什么特點(diǎn)?質(zhì)子惰性溶劑分為幾類(lèi)?舉例說(shuō)明2.什么叫拉平效應(yīng)和區(qū)分效應(yīng)?3.化學(xué)氣相沉積法有哪些反應(yīng)類(lèi)型?該法對(duì)反應(yīng)體系有什么要求?在熱解反應(yīng)中,用金屬烷基化物和金屬烷氧基化物作為源物質(zhì)時(shí),得到的沉積層分別為什么物質(zhì)?如何解釋?zhuān)?.寫(xiě)出制備光導(dǎo)纖維預(yù)制棒的主要反應(yīng)和方法。反應(yīng)體系的尾氣如何處理?在管內(nèi)沉積法和管外沉積法中添加劑的順序有什么不同?5.化學(xué)輸運(yùn)反應(yīng)
2、的平衡常數(shù)有什么特點(diǎn)?為什么?試以熱力學(xué)分析化學(xué)輸運(yùn)反應(yīng)的原理。6.用氫還原氧化物的特點(diǎn)是什么?在氫還原法制鎢的第三階段中,溫度高于1200℃時(shí)反應(yīng)會(huì)發(fā)生什么變化?7.低溫分離的方法有哪些?在什么情況下用低溫化學(xué)分離法?其主要特點(diǎn)是什么?用什么方法分離O2和CO?在分級(jí)冷凝中如何選擇冷肼?簡(jiǎn)述液氨中的合成反應(yīng)。8.低溫下稀有氣體化合物的合成方法有哪些?在低溫水解合成XeO3時(shí),應(yīng)選擇XeF4還是XeF6作源物質(zhì)?為什么?合成KrF2的反
3、應(yīng)機(jī)理是什么?有哪些因素影響KrF2的量子產(chǎn)率?9.分別敘述先驅(qū)物法和溶膠凝膠法的定義和特點(diǎn)。在何種情況下不宜用先驅(qū)物法?10.說(shuō)明光化學(xué)反應(yīng)的原理和配位化合物光化學(xué)合成的類(lèi)型。11.試解釋吸收、熒光、磷光、內(nèi)部轉(zhuǎn)換和系間竄躍的意義。12.從溶液中生長(zhǎng)晶體有哪些方法?電解溶劑法和溶液蒸發(fā)法有何區(qū)別和共同之處?13.理想晶體為什么是無(wú)色透明的?14.什么叫模板反應(yīng)?舉例說(shuō)明。15.試述局部化學(xué)反應(yīng)的意義和類(lèi)型。16.什么叫水熱合成法?按反
4、應(yīng)溫度可分幾類(lèi)?水熱合成法有哪些優(yōu)點(diǎn)和應(yīng)用前景高溫高壓下水熱反應(yīng)有哪些特征?說(shuō)明用水熱法合成水晶的必然性。17.某氯堿廠用隔膜槽電解食鹽水,每個(gè)電解槽通過(guò)電流10000A,問(wèn)理論上每個(gè)電解槽每天可生產(chǎn)多少氯、氫和氫氧化鈉?設(shè)陽(yáng)極的電流效率為97%,問(wèn)實(shí)際上每天產(chǎn)氯多少?18.在上題中若槽電壓為3.8V,則每個(gè)槽每天消耗的能量為多少焦耳?相當(dāng)于多少度電能?生產(chǎn)1t氯消耗多少度電能?19.簡(jiǎn)述自蔓延高溫合成的意義和類(lèi)型。20.無(wú)機(jī)合成中如何
5、應(yīng)用等離子體?21.采用直流等離子體化學(xué)沉積法合成金剛石時(shí),往往會(huì)有石墨析出。若在原料氣中引入一定比例的氫氣,則可以在很大程度上抑制石墨的析出。氫的作用機(jī)理是什么?22.什么叫濺射合成法?濺射合成法有哪些應(yīng)用?23.試述凝膠法生長(zhǎng)晶體的基本原理,凝膠的作用是什么?24.用水熱法制備二氧化硅單晶的原理是什么?寫(xiě)出其反應(yīng)式和反應(yīng)條件。25.簡(jiǎn)述SPS燒結(jié)法的原理與特點(diǎn)。26.解釋納米粒子吸收光譜藍(lán)移和紅移的原因。(3)43NiSONH(aq
6、)???(4)23MnNaBiOH???(5)224273CrOCrOCrO???????(6)2623523[Co(HO)]Cl[Co(NH)(HO)]Cl???5.寫(xiě)出下列情況中的主要反應(yīng)方程式:(1)少量的碘化鉀溶解于含有6molL1HCl的HIO3溶液中(2)次磷酸鈉加入到過(guò)量的酸性KMnO4溶液中。(3)K2FeO4加入到過(guò)量的稀硝酸中。6.寫(xiě)出并配平下列反應(yīng):(1)在氧氣存在下以CN瀝取金屬金。(2)AgI跟硫代硫酸鈉反應(yīng)。
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