薄膜技術(shù)發(fā)展歷程

1、薄膜技術(shù)發(fā)展歷程薄膜技術(shù)發(fā)展歷程(一)：鍍膜發(fā)展史：鍍膜發(fā)展史化學(xué)鍍膜最早用于在光學(xué)元件表面制備保護(hù)膜。隨后，1817年，F(xiàn)raunhofe在德國用濃硫酸或硝酸侵蝕玻璃，偶然第一次獲得減反射膜，1835年以前有人用化學(xué)濕選法淀積了銀鏡膜它們是最先在世界上制備的光學(xué)薄膜。后來，人們在化學(xué)溶液和蒸氣中鍍制各種光學(xué)薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些應(yīng)用外，化學(xué)溶液鍍膜法逐步被真空鍍膜取代。真空蒸發(fā)和濺射這兩種真空物理鍍膜工藝，是迄今在工

2、業(yè)撒謊能夠制備光學(xué)薄膜的兩種最主要的工藝。它們大規(guī)模地應(yīng)用，實際上是在1930年出現(xiàn)了油擴(kuò)散泵機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)之后。1935年，有人研制出真空蒸發(fā)淀積的單層減反射膜。但它的最先應(yīng)用是1945年以后鍍制在眼鏡片上。1938年，美國和歐洲研制出雙層減反射膜，但到1949年才制造出優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品。1965年，研制出寬帶三層減反射系統(tǒng)。在反射膜方面，美國通用電氣公司1937年制造出第一盞鍍鋁燈。德國同年制成第一面醫(yī)學(xué)上用的抗磨蝕硬銠膜。在濾光片方面，

3、德國1939年試驗淀積出金屬—介質(zhì)薄膜FabryPerot型干涉濾光片。在濺射鍍膜領(lǐng)域，大約于1858年，英國和德國的研究者先后于實驗室中發(fā)現(xiàn)了濺射現(xiàn)象。該技術(shù)經(jīng)歷了緩慢的發(fā)展過程。1955年，Wehner提出高頻濺射技術(shù)后，濺射鍍膜發(fā)展迅速，成為了一種重要的光學(xué)薄膜工藝?，F(xiàn)有兩極濺射、三極濺射、反應(yīng)濺射、磁控濺射和雙離子濺射等淀積工藝。1880年碳?xì)浠衔餁庀酂峤?SawyerMann)。1887年薄膜的真空蒸發(fā)(坩堝)(Nahrwo

4、ldPohlPringsheim)。1896年開始研制形成減反射膜的化學(xué)工藝。1897年研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD)膜厚的光學(xué)干涉測量法(Wiener)。20世紀(jì)的前50年1904年圓筒上濺射鍍銀獲得專利(Edison)。1907年開始研究真空反應(yīng)蒸發(fā)技術(shù)(Soddy)。1913年吸附等溫線的研究(LangmuirKnudsenKnacke等)。1917年玻璃棒上濺射沉積薄膜電阻。1920年濺射理論的研究(Guntherschu

5、lzer)。1928年鎢絲的真空蒸發(fā)(RitsehlCartwright等)。1930年真空氣相蒸發(fā)形成超微粒子(Pfund)。1934年半透明玻璃紙上金的卷繞鍍(KurzWhiley)薄膜沉積用的玻璃的等離子體清洗(BauerStrong)。1935年金屬紙電容器用的Cd:Mg和Zn的真空蒸發(fā)卷繞鍍膜研究成功(BauschMansbridge)帕洛馬100英寸望遠(yuǎn)鏡鏡面鍍鋁(Strong)光學(xué)透鏡上鍍制單層減反射膜(StrongSma

6、kula)金屬膜生長形態(tài)的研究(radeMatindale)。1937年使用鉛反射器的密封光束頭研制成功(Wright)真空卷繞蒸發(fā)鍍膜研制成功(Whiley)磁控增強(qiáng)濺射鍍膜研制成功(Penning)。1938年離子轟擊表面后蒸發(fā)取得專利(Berghaus)。1939年雙層減反射膜鍍制成功(CartwrightTurner)。1941年真空鍍鋁網(wǎng)制成雷達(dá)用的金屬箔。1942年三層減反射膜的鍍制(Geffcken)同位素分離用的金屬離子