電子類化工廢水中銦錫的回收利用.pdf

1、氧化銦錫(ITO)的主要應(yīng)用領(lǐng)域是生產(chǎn)液晶顯示器，而其主要成分金屬銦在地殼上含量稀少，屬于稀散金屬。隨著電子行業(yè)的發(fā)展、含銦原生資源的過渡開采以及銦的需求量進一步增加，很多國家將其列為戰(zhàn)略資源，因此，開發(fā)銦的二次資源顯得尤為重要。
　　ITO刻蝕廢液產(chǎn)生于液晶顯示器的生產(chǎn)過程中。這種廢液的特點為含酸高且含高回收價值的金屬離子，若是采用的是直排方式，既會使環(huán)境受到污染，又會使寶貴的資源被浪費。鑒于銦的需求量擴大，回收ITO刻蝕廢液中

2、的銦顯得十分必要。本文以ITO刻蝕廢液為研究對象，研究刻蝕廢液中銦錫的回收利用技術(shù)。
　　首先，通過沉淀法對ITO刻蝕廢液進行處理，介紹了沉淀法的優(yōu)缺點，并敘述了實驗現(xiàn)象。實驗結(jié)果表明，通過沉淀法處理ITO刻蝕廢液，其回收率較高，其中銦離子的回收率為99.9％，錫離子的回收效率為96.6％。
　　其次，通過萃取法對ITO刻蝕廢液進行處理，介紹了萃取法的優(yōu)缺點，選擇了三種常見的應(yīng)用于銦錫萃取的萃取劑，即，P204，P507和T

3、BP，并通過定性的角度確定了適合用于ITO刻蝕廢液的萃取劑為P204，并做了P204的反萃實驗。實驗結(jié)果表明，通過對P204進行單因素實驗及正交實驗得出萃取法在處理ITO刻蝕廢液的最佳工藝為萃取劑/稀釋劑為3/7;攪拌時間為5分鐘;油水比（A/O）為7/1，溫度為30℃。最佳工藝條件下，銦離子的萃取率為99.14％，錫離子的萃取率為76.68％。但是由于反萃效率不高，經(jīng)估算，該方法銦的總回收率在85％左右，錫的回收率僅為15％左右。