電子ビーム描畫(huà)裝置の機(jī)能および操作方法

1、機(jī)器利用講習(xí)會(huì)「超微細(xì)光學(xué)素子を作る」,,大阪府立産業(yè)技術(shù)総合研究所フォトニクス開(kāi)発支援センター,（1日目）電子ビーム描畫(huà)裝置による回折格子のレジストパターン作製実習(xí),本日の予定,,簡(jiǎn)単な電子ビーム描畫(huà)裝置及び本日行う作業(yè)の説明石英基板にレジスト塗布およびEB裝置に導(dǎo)入お晝休み（真空引き待ち）EB裝置の光學(xué)系調(diào)整および描畫(huà)の開(kāi)始ファイルの変換作業(yè)の説明（EB描畫(huà)中、省略する場(chǎng)合あり）現(xiàn)像作業(yè)作製した素子のSEM観察＊

2、青字はクリーンルーム內(nèi)で作業(yè),電子ビーム描畫(huà)裝置 JBX-5000SI,電子線源　　　　　 LaB6加速電圧　　　　　 25KV or 50KV試料サイズ 　　　　　　ホルダーによる最小ビーム徑　　　 8nmつなぎ精度 　 60nm/40nm重ね合わせ精度 60nm/40nm描畫(huà)方式 　 ベクトルスキャン日本電子株式會(huì)社製,,本日作製する素子,,基板：1インチ角（25m

3、m×25mm）石英レジスト：NEB－22A2パターン：200nm&200nm line&space,,,,,,,,5mm,200nm L&S 200周期,5μC/cm2 → 9μC/cm2,,,,,,,20μm,,80μm,レジストの種類(lèi)と選択,,デジタル型レジスト,アナログ型レジスト,ポジ型レジストとネガ型レジスト,,,EB,露光,,ポジ,ネガ,実際のプロセス（基板洗浄済み）,,,,OAPおよび

4、レジスト塗布,プリベーク,電子線描畫(huà),,,,,,,,現(xiàn)像,,,PEB,,,エスペーサ塗布および乾燥,エスペーサ水洗,完成,微細(xì)加工フローチャート,,,,レジストの選択,,,基板の洗浄,,,レジスト塗布,,,必要ならばエスペーサー塗布,,,EB裝置の調(diào)整,,,EB描畫(huà),,,現(xiàn)像,,,,性能評(píng)価,,,描畫(huà)時(shí)間計(jì)算,パターンファイル（j01ファイル）について,,目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。フォーマットにはいくつ

5、か種類(lèi)がありますが、今回はテキスト形式でパターンを作成できるj01フォーマットを用います。作成したファイルは、EB裝置が理解できる形に変換する必要があります。,今回用いるj01ファイル,パターンファイルの変換とは,,,j01、x01、GDSⅡパターンファイル,,,スキャナーデータ,,pchk6プログラム,作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。時(shí)間があれば作業(yè)を行います。,,,ジョブデックファイル、スケジ