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文檔簡介
1、本文對3-取代唑基頭孢菌素類抗生素頭孢哌酮鈉和頭孢唑林鈉質(zhì)量控制進(jìn)行了研究.根據(jù)生產(chǎn)合成工藝,對超過0.1%的5種雜質(zhì)確定了其結(jié)構(gòu),即:MMT、7ACA-3TZ、頭孢哌酮S-異構(gòu)體、頭孢哌酮硫酮異構(gòu)體、降解物B.確定了溶媒結(jié)晶型和凍干型頭孢哌酮鈉產(chǎn)品中超過0.1%的雜質(zhì)的控制限度.該項研究結(jié)果己被中國藥典委員會采用.對頭孢哌酮鈉細(xì)菌內(nèi)毒素分析方法進(jìn)行了研究,提出了比歐洲藥典、美國藥典更加嚴(yán)格的限度.已被中國藥典委員會采納.文中根據(jù)頭孢唑
2、林鈉合成工藝路線對頭孢唑林鈉及其有關(guān)雜質(zhì)進(jìn)行了結(jié)構(gòu)確定和雜質(zhì)限度研究;并考察了其穩(wěn)定性.確定其產(chǎn)品中雜質(zhì)超過0.1%的6種雜質(zhì)為:ATA-7-7ACA、MMTD、頭孢唑林硫酮異構(gòu)體、頭孢唑林內(nèi)酯、Cefazoloic acid、Hydrolyzed cefazoloic acid.其質(zhì)量控制限度確定為:單個雜質(zhì)不超過1.0%,總雜質(zhì)不超過3.5%.為提高頭孢唑林鈉澄清度質(zhì)量,生產(chǎn)工藝方面可考慮適當(dāng)提高產(chǎn)品的pH,以減緩頭孢唑林鈉降解物M
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