環(huán)形拋光技術研究.pdf

1、現(xiàn)今許多大型系統(tǒng)需要大量的大口徑高精度平面光學元件,在此類元件的加工中,環(huán)拋(ContinuousPolishing)是一種非常重要的拋光技術,但目前它還存在著一些問題:對操作者的經驗依賴太強,加工效率不高,加工質量也不穩(wěn)定。原因是對拋光磨削的規(guī)律認識不夠,對工藝參數(shù)的影響,沒有一個準確的認識。本論文從理論和實驗兩個方面對環(huán)拋進行了研究。首先總結了環(huán)拋工藝中的主要問題,對比國內外環(huán)拋加工技術的主要系統(tǒng)和特征,在此基礎上進行材料去除量的理

2、論分析和工藝實驗研究。針對拋光模與工件的機械磨削作用,根據Preston方程及對工件的相對運動分析,完善了磨削去除的理論模型,并從理論上分析了工件表面去除量規(guī)律。引入相對磨削量概念來反映磨削均勻程度,從理論上分析了速度(轉速比)、偏心距、壓強(均勻和不均勻)以及工件露邊對磨削量和相對磨削的影響規(guī)律。對拋光瀝青的力學性質作了初步分析,利用有限元方法,對拋光瀝青、光學元件進行了彈性狀態(tài)假設下的受力分析。得到了工件、校正盤與拋光盤表面之間的接