液態(tài)源MOCVD控制系統(tǒng)研究.pdf

1、金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD)是一門制造薄膜材料的關鍵技術，目前廣泛應用于制備高質量半導體薄膜、鐵電薄膜、超導薄膜和各種半導體器件。本文在研究了現(xiàn)代MOCVD技術的基本原理和特點的基礎上，仔細分析了系統(tǒng)的工藝控制流程。通過對幾種控制系統(tǒng)結構形式的比較，針對控制系統(tǒng)的實際需求，建立了相應的控制系統(tǒng)。 系統(tǒng)采用集散控制方式來控制薄膜的生長。整個MOCVD控制系統(tǒng)采用兩級分布式控制結構，應用一臺Pro-face系列觸摸屏進行系統(tǒng)

2、的監(jiān)控管理、信號采集、數(shù)據(jù)處理及參數(shù)設定，利用OMRON系列可編程控制器(PLC)和智能儀表等實現(xiàn)各信號的轉換來完成生產現(xiàn)場的過程控制，通過數(shù)據(jù)線聯(lián)接PLC與觸摸屏、智能儀表等控制部件，實現(xiàn)材料生長過程的全自動控制。軟件開發(fā)中將采用模塊化設計方法，將系統(tǒng)劃分為若干功能模塊，各模塊之間保持相互獨立，提高了系統(tǒng)的可靠性、可維護性，縮短了軟件的開發(fā)周期；監(jiān)控界面采用圖形用戶界面，為操作人員提供生動友好的人機接口，方便操作人員掌握和使用。為了確