大角度離子注入機垂直掃描機構的設計.pdf

1、垂直掃描機構是大角度離子注入機的一個非常關鍵的組件，它將高速直線運動從靶室外大氣環(huán)境傳遞到靶室內(nèi)高真空環(huán)境，使裝有晶片的靶盤高速升降運動，形成離子束垂直方向按要求的高速機械掃描。
　　 隨著器件工藝的發(fā)展，離子注入設備從傳統(tǒng)的多片高速旋轉(zhuǎn)靶發(fā)展到當今的單晶片大角度注入靶，為不使晶片局部過熱，要求單晶片靶升降掃描速度高達數(shù)百毫米每秒，同時，靶室真空度的好壞和靶室內(nèi)顆粒數(shù)量的多少是影響晶片成品質(zhì)量非常重要的因素。如果真空度達不到要求

2、，會導致離子束發(fā)散度變大、束流損失增大、產(chǎn)生中性束以及引起離子束的不純等危害；如果靶室顆粒數(shù)量超標，則會使晶片形成缺陷，當缺陷密度達到一定值時，元器件就會失效。
　　 本文根據(jù)大角度離子注入機的垂直掃描結構方案和有關參數(shù)，對垂直掃描機構的氣體軸承和真空差分密封部分進行了設計和性能計算。主要進行了氣體潤滑基礎理論研究，建模與計算方法的闡述，氣體軸承主要結構參數(shù)選定，性能分析和方法準確性的驗證。文中沒有采用傳統(tǒng)的方法去求解雷諾方程，