版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、氮化鎵是近十幾年來迅速發(fā)展起來的第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料之一,其化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、耐高溫、耐腐蝕,非常適合于制作抗輻射、高頻、大功率和高密度集成的電子器件以及藍光、綠光和紫外光電子器件。所有這些優(yōu)良的性質(zhì),很好的彌補了前兩代Si 和AsGa 等半導(dǎo)體材料本身固有的缺點,從而成為飛速發(fā)展的研究前沿。 AlGaN/GaN 高電子遷移率晶體管(HEMTs),是以AlGaN/GaN 異質(zhì)結(jié)材料為基礎(chǔ)而制造的GaN 基器件。與傳統(tǒng)的MESFET
2、 器件相比,AlGaN/GaN HEMTs 具有高跨導(dǎo)、高飽和電流以及高截止頻率的優(yōu)良特性。另外,實驗證明,GaN 基HEMT在1000K 的高溫下仍然保持著良好的直流特性。從而減少甚至取消冷卻系統(tǒng),使系統(tǒng)的體積和重量大大降低,效率大大提高。由于GaN 材料的熱導(dǎo)率較高、熱容量大,特別是它有著較高的擊穿電場。這極大地提高了GaN 器件的耐壓容量、電流密度,使GaN 功率器件可以工作在大功率的條件下。 隨著GaN 材料制造工藝的不
3、斷改進和制造成本的下降,AlGaN/GaN HEMT器件必將在高溫、大功率、高頻、光電子、抗輻照等領(lǐng)域取得廣泛的應(yīng)用。雖然人們對GaN 基微波功率器件的研究工作已經(jīng)持續(xù)了多年,深度和廣度已經(jīng)達到了前所未有的水平,但是真正商業(yè)化的AlGaN/GaN HEMT 功率器件仍然尚未問世。這里面有諸多原因。除了可靠性及GaN 缺陷密度等問題尚未解決外,當(dāng)HEMT 器件工作于大功率、高溫的環(huán)境時,會產(chǎn)生明顯的“自熱效應(yīng)”。引起附加的功率損失和電流輸
4、出能力的下降,進而降低器件的微波性能,甚至引起功能失效。另一方面對于在微波領(lǐng)域有著良好應(yīng)用前景的AlGaN/GaN HEMT ,由于GaN基器件發(fā)展歷史相對較短,對AlGaN/GaN HEMT 的大信號小信號建模理論研究成果較少,還主要沿用MESFET 的相關(guān)模型。由于HEMT 與MESFET 的工作原理有所不同,在加上AlGaN/GaN HEMT 器件有其自身的特點,所以套用這些模型誤差在所難免。因此建立適合AlGaN/GaN HEM
5、T 的大小信號模型是目前理論研究需要努力的方向。以上這些問題的研究都是推進AlGaN/GaN HEMT 商業(yè)化生產(chǎn)進程中十分重要的步驟。 本課題圍繞以下幾個方面展開具體工作: (1)針對HEMT 器件的自熱效應(yīng),提出了一種用于分析AlGaN/GaN HEMT I-V特性的數(shù)值計算模型,在算法上轉(zhuǎn)化為迭代求解泊松方程、薛定諤方程和費米分布。分析了自熱效應(yīng)的起因,以及這種效應(yīng)對二維電子氣濃度分布和漏電流的影響。在此過程中引入
6、了一系列與溫度和Al 含量有關(guān)的參數(shù),如導(dǎo)帶斷續(xù)、載流子遷移率、極化效應(yīng)、電子飽和漂移速度、熱導(dǎo)率等。而且提出了器件襯底底部溫度sub T 為非恒定的模型。采用此模型的模擬結(jié)果與國外發(fā)表的實驗數(shù)據(jù)一致性很好,而這些因素的考慮未影響模型運算的迭代收斂性,也未明顯增加計算量,因此在大功率AlGaN/GaN HEMT 的研究過程中,這一模型適合于包括“自熱效應(yīng)”在內(nèi)的器件溫度特性分析。 (2)在以上數(shù)值分析模型的基礎(chǔ)上,分別計算了不同
7、溫度時HEMT 器件漏電流與柵電壓以及跨導(dǎo)與柵電壓之間的關(guān)系,并與實驗值做了對比,模擬的結(jié)果比較好的反映了實際情況。計算結(jié)果表明當(dāng)環(huán)境溫度較高時,AlGaN/GaN HEMT 器件的襯底底部與溝道之間的溫度差會變得較大。這種現(xiàn)象會導(dǎo)致溝道中電子遷移率降低,從而使器件的跨導(dǎo)進一步下降,微波特性變差。 (3)從小信號線性分析入手,詳細(xì)討論了AlGaN/GaN HEMT 小信號等效電路模型,給出了S 參數(shù)法提取寄生元件和本征元件的詳細(xì)
8、過程。特別地,提出了一種專門針對AlGaN/GaN HEMT 器件,基于S 參數(shù)測量值的參數(shù)提取模型。這個模型具有簡單易行,精度較高的優(yōu)點。尤其是不用參數(shù)優(yōu)化,免去了大量的計算過程。我們應(yīng)用一組實際測量的AlGaN/GaN HEMT 小信號S 參數(shù)進行了比較驗證,結(jié)果比較令人滿意。并得出結(jié)論,在提取出寄生參數(shù)后,應(yīng)用較高頻率的S 參數(shù)來提取本征參數(shù)。小信號的分析方法能夠推廣于大信號分析,為非線性分析提供必要的支持。 (4)總結(jié)了
9、幾種常見的AlGaN/GaN HEMT 器件大信號直流I-V 特性模型。并且較為詳細(xì)地分析了AlGaN/GaN HEMT 器件大信號電容模型。在考慮了柵電壓與源漏電流的關(guān)系以及在不同柵電壓區(qū)ds I 隨ds V 的變化斜率不同的基礎(chǔ)上,以Materka模型為數(shù)學(xué)模型框架,結(jié)合經(jīng)驗數(shù)學(xué)模型的簡明特點,提出了一種改進的I-V 特性模型。對AlGaN/GaN HEMT 器件大信號的輸出特性進行精確的描述。采用這個模型計算了AlGaN/GaN
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管的模型研究.pdf
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管TCAD仿真研究.pdf
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管器件建模及特性研究.pdf
- 壓強對AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管輸運特性的影響.pdf
- algan_gan高電子遷移率晶體管tcad仿真研究
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管可靠性與新結(jié)構(gòu)的研究與設(shè)計.pdf
- GaN高電子遷移率晶體管耐壓機理研究.pdf
- 增強型GaN高電子遷移率晶體管的研究.pdf
- GaN基異質(zhì)結(jié)及高電子遷移率晶體管的關(guān)鍵機理研究.pdf
- 高電子遷移率晶體管的建模和優(yōu)化.pdf
- AlGaN-GaN異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管載流子遷移率和相關(guān)器件特性參數(shù)研究.pdf
- 高電子遷移率晶體管建模及參數(shù)提取.pdf
- GaN高電子遷移率晶體管特性及其功率放大器研究.pdf
- GaN基高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的熱響應(yīng)研究與模擬.pdf
- AlGaN-GaN場效應(yīng)晶體管的TCAD研究.pdf
- 復(fù)合勢壘高電子遷移率晶體管的研制與分析.pdf
- 雙軸應(yīng)變下AlGaN-GaN二維電子氣遷移率的計算.pdf
- AlGaN-GaN異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管特性研究.pdf
- 氮化鎵基高電子遷移率晶體管逆壓電可靠性研究.pdf
- P型柵極高電子遷移率晶體管可靠性研究.pdf
評論
0/150
提交評論