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1、本文通過(guò)對(duì)蒙脫土和納米SiO<,2>表面改性，采用陰離子聚合法分別制備了MC尼龍／蒙脫土納米復(fù)合材料和MC尼龍／SiO<,2>納米復(fù)合材料，利用X射線衍射、紅外光譜、熱失重分析和力學(xué)性能測(cè)試等手段研究和分析材料的結(jié)構(gòu)和性能。 結(jié)果表明，蒙脫土經(jīng)不同改性劑處理后，層間距有所增大。蒙脫土在MC尼龍結(jié)晶過(guò)程中起到了異相成核的作用，促進(jìn)了γ晶型的生成，并且，隨蒙脫土含量的增加，γ晶型的衍射峰逐漸增強(qiáng)。硅烷偶聯(lián)劑KH-550可以提高蒙脫土
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