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1、北京正負(fù)電子對(duì)撞機(jī)重大改造工程(BEPCⅡ)正在進(jìn)行。改造后,北京正負(fù)電子對(duì)撞機(jī)的亮度將提高100倍,其探測(cè)器(BESⅢ)性能也有很大提高。 飛行時(shí)間計(jì)數(shù)器(TOF)是BESⅢ子探測(cè)器之一,其作用是測(cè)量帶電粒子的飛行時(shí)間,以鑒別粒子。 此論文的主要內(nèi)容是關(guān)于TOF的刻度方法和軟件系統(tǒng)的研究。利用BOOST(BesⅢObject-Oriented Simulation Tool)系統(tǒng)產(chǎn)生5×10<'4>個(gè)Bhabha事例的
2、模擬數(shù)據(jù),經(jīng)BOSs(BesⅢOffline Software System)重建系統(tǒng)處理后,TOF重建系統(tǒng)(TofRec)就保存了TOF刻度需要的數(shù)據(jù)樣本?;谠摂?shù)據(jù)樣本,我們做了仔細(xì)的刻度研究,內(nèi)容包括: 單端時(shí)間修正:經(jīng)過(guò)初步修正,單端時(shí)間分辨從刻度前的~251ps改善到~120ps,這是合理的與模擬吻合的結(jié)果; 雙端時(shí)間加權(quán):由于桶部TOF采用兩端讀出,所以綜合2次測(cè)量值給出一個(gè)最優(yōu)估計(jì)值。時(shí)間分辨從,~120p
3、s改善到~86ps; 雙層時(shí)間加權(quán):考慮到桶部有兩層TOF,又研究了雙層時(shí)間加權(quán)、以及四端時(shí)間加權(quán),它們給出相同的結(jié)果,時(shí)間分辨約為69ps,較雙端加權(quán)的時(shí)間分辨又有很大的改善; 有效速度:中性粒子在Main Drift Chamber(MDC)中沒(méi)有徑跡,卻可以利用其在TOF中留下的時(shí)間信息以及有效速度反推它的擊中位置,刻度表明它的標(biāo)準(zhǔn)誤差為17mm。 光傳輸衰減長(zhǎng)度和Q<,peak>曲線(xiàn):Bhabha事例刻度
4、出的參數(shù)在修正強(qiáng)子事例的飛行時(shí)問(wèn)時(shí)會(huì)有一個(gè)系統(tǒng)偏移,它與粒子動(dòng)量和種類(lèi)有關(guān),利用它們可以修正強(qiáng)子的系統(tǒng)時(shí)間偏移。 該軟件系統(tǒng)基于面向?qū)ο蟮腃++語(yǔ)言設(shè)計(jì)并發(fā)布為BOSS刻度系統(tǒng)的一部分,其靈活的選項(xiàng)控制參數(shù)可以方便的完成TOF刻度,易于擴(kuò)展的設(shè)計(jì)讓TOF刻度系統(tǒng)新增加一項(xiàng)關(guān)于TOF的刻度很容易。為T(mén)OF刻度的功能擴(kuò)展做了準(zhǔn)備,比如自動(dòng)化刻度。刻度參數(shù)保存在文件中,提供給TOF刻度服務(wù),以便TOF重建系統(tǒng)使用,這些都是跟據(jù)處理真實(shí)
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