版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、本文主要通過化學鍍、熱處理和等離子體轟擊三種表面處理技術來制備Ni-P表面納米材料。首先研究了化學鍍鎳磷合金鍍液主要組份中絡合劑對鍍層磷含量的影響,采用三種不同的絡合劑——冰乙酸、乳酸和檸檬酸來制備不同磷含量的鍍層。研究結果表明,隨著絡合劑pK值的增加,鍍層中的磷含量從3.82(wt)﹪增加到6.40及11.69(wt)﹪。同時,采用XRD和SEM等方法研究了鍍層中的磷含量對鍍層的表面形貌和組織結構的影響。隨磷含量的增加,鍍層結構發(fā)生從
2、納米晶態(tài)到混晶態(tài)再到非晶態(tài)的轉變,并且鍍層胞狀顆粒尺寸隨P含量的增加而逐漸增大。然后采用300℃下熱處理的方式對Ni-6.40﹪P的混晶鍍層和Ni-11.69﹪P的非晶鍍層進行晶化處理。兩種鍍層均發(fā)生了晶化,生成了納米晶Ni的亞穩(wěn)相,晶粒大小在20~40nm左右。將兩種鍍層繼續(xù)加熱至400℃后,鍍層發(fā)生完全晶化,生成Ni和Ni3P的混合物相。利用DSC分析技術對這兩種鍍層進行了變溫和等溫晶化的動力學研究。研究結果表明:升溫晶化時,Ni-
3、6.40﹪P鍍層的晶化激活能為212.46~264.23KJ/mol,而Ni-11.69﹪P鍍層的晶化激活能為224.29~284.32KJ/mol;在等溫晶化過程中,存在三個不同的Avrami指數(shù)值,說明這兩種鍍層的等溫晶化可以分為三個階段,并且每個階段的晶化機制有所不同。 此外,文中還采用氬源等離子體轟擊的方式對Ni-6.40﹪P的混晶鍍層和Ni-11.69﹪P的非晶鍍層進行晶化處理。結果表明,隨著基片偏壓得增大,鍍層的晶化
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 納米Ni-P合金膜的化學鍍制備.pdf
- 陶瓷納米顆粒增強Ni-P復合鍍層的制備與性能.pdf
- 復合鍍Ni-P摻納米材料工藝及機理研究.pdf
- 納米晶銅表面化學鍍Ni-P合金的研究.pdf
- 氣缸套表面Ni-P涂層的制備及耐蝕性能研究.pdf
- Ni2P-Ni12P5微納米材料的制備及表征.pdf
- 納米晶鎂合金表面化學鍍Ni-P合金鍍層的研究.pdf
- 雙層Ni-P鍍層及Ni-P-PTFE復合鍍層的制備及性能研究.pdf
- 電沉積Ni-P合金及Ni-P-ZrO-,2-納米復合鍍層的研究.pdf
- 化學鑄(鍍)制備Ni-P合金微構件的研究.pdf
- 化學鍍Ni-P、Ni-W(Mo)-P納米晶鍍層的工藝及性能研究.pdf
- 石英光纖表面化學鍍Ni-P和電鍍Ni聯(lián)合工藝研究.pdf
- 鎂合金表面化學鍍Ni-P層的制備及其耐蝕性的研究.pdf
- 納米孔碳-Ni-P非晶復合膜的制備及分離性能研究.pdf
- Ni-P梯度鍍層及Ni-P-SiC梯度鍍層研究.pdf
- ZK60鎂合金表面化學鍍NI-P及NI-W-P研究.pdf
- 鎂合金表面轉化膜-化學鍍Ni-P層的制備及耐蝕性研究.pdf
- 非晶態(tài)合金Ni-P、Ni-Co-B金屬微球的制備與表征.pdf
- 化學鍍Ni-P合金和化學復合鍍Ni-P-納米SiC工藝及性能研究.pdf
- 化學鍍Ni-P基納米復合鍍層及其性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論